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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0422216 (1999-10-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 10 |
A system for applying particulate materials comprising a supply source of pressurized gas, a chamber with first and second opposed side walls, at least one pressurized gas entrance conduit for transporting pressurized gas to the chamber, at least one material hopper for depositing particulate materi
1. A device for spreading particulate materials, comprising:a source of pressurized gas; a chamber having first and second substantially oppositely positioned ends, the chamber coupled to the source of pressurized gas; at least one material hopper coupled to the chamber, the at least one hopper havi
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