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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0440223 (1999-11-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 29 |
An apparatus for cleaning a wafer oriented vertically is provided. The apparatus includes a first brush and a second brush located horizontally from the first brush. During use, a wafer is oriented vertically the first and second brushes. The brushes are brought into contact with the wafer and rotat
1. A substrate cleaning apparatus, comprising:a first brush; a second brush located horizontally from said first brush; a first roller and a second roller located vertically below said first brush and said second brush; a first brush positioner for moving said first brush from a first position to a
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