$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Method and apparatus for removing processing liquid from a processing liquid path 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/04
  • B08B-005/00
  • B08B-009/032
출원번호 US-0252716 (1999-02-19)
발명자 / 주소
  • Ted G. Yoshidome
  • Tushar Mandrekar
  • Nitin Khurana
  • Anish Tolia
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Dugan & Dugan
인용정보 피인용 횟수 : 10  인용 특허 : 18

초록

A valve arrangement is provided that more effectively purges processing liquid from a processing liquid delivery system. With the valve arrangement only a small portion of the processing liquid path having a small wetting perimeter must be purged to affect replacement of a dysfunctional injection va

대표청구항

1. A valve arrangement adapted to purge a processing liquid path comprising:a processing liquid path adapted to transport processing liquid between a source of the processing liquid and a liquid flow meter; a first isolation valve located adjacent an upstream side of the flow meter and forming a fir

이 특허에 인용된 특허 (18)

  1. Ohmi Tadahiro (Sendai JPX) Sugiyama Kazuhiko (Sendai JPX) Nakahara Fumio (Sendai JPX) Umeda Masaru (Tokyo JPX), Cylinder cabinet piping system.
  2. George Mark (23 N. 12th St. Allentown PA 18102), Delivery of reactive gas from gas pad to process tool.
  3. Knutson Paul L. ; Rodriguez Benjamin Garcia, Dual exhaust controller.
  4. Ohmi Tadahiro,JPX ; Hirao Keiji,JPX ; Minami Yukio,JPX ; Yamaji Michio,JPX ; Hirose Takashi,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX, Fluid control device.
  5. Redemann Eric J. ; Vu Kim N., Gas panel.
  6. Park Jae Won,KRX, Gas supply device for semiconductor manufacturing apparatus.
  7. Yokogi Kazuo,JPX, Gas supply system equipped with cylinders.
  8. Otteman John H. (11940 E. Washington Blvd. Whittier CA 90606) Gray William M. (1191 Lenor Way San Jose CA 95128), Gas supply system with purge means.
  9. Itafuji Hiroshi,JPX, Gas supply unit.
  10. Okumura Katsuya (Yokohama JPX) Sudo Yoshihisa (Niiza JPX) Goshima Kenichi (Kasugai JPX) Itafuji Hiroshi (Kasugai JPX) Kojima Akihiro (Kasugai JPX), Gas supplying system and gas supplying apparatus.
  11. Manofsky ; Jr. William L. ; Fittro Gary Curtis, Modular fluid flow system with integrated pump-purge.
  12. Williams, Todd E.; Desch, Steven M., Process gas controller.
  13. Ohmi Tadahiro (Sendai JPX) Sugiyawa Kazuhiko (Sendai JPX) Nakahara Fumio (Sendai JPX) Umeda Masaru (Tokyo JPX), Process gas supply piping system.
  14. Itoh Masahito,JPX ; Inagaki Toshiyasu,JPX ; Ueta Minoru,JPX ; Yada Masahiko,JPX ; Itafuji Hiroshi,JPX, Process gas supply unit.
  15. Ritrosi Joe ; Schmitt Gary ; Quintino Carl ; Kasper Gerhard, Purgeable connection for gas supply cabinet.
  16. Lorenz, Andrew K.; Mobley, Scott R., Purging apparatus.
  17. Ohmi Tadahiro,JPX ; Kawano Yuji,JPX ; Hirao Keiji,JPX ; Tanaka Hisashi,JPX ; Masuda Naoya,JPX ; Minami Yukio,JPX ; Hatano Masayuki,JPX ; Tanaka Shigeaki,JPX ; Yamaji Michio,JPX ; Morokoshi Hiroshi,JP, Shutoff-opening device.
  18. Ohmi Tadahiro,JPX ; Yamaji Michio,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Hatano Masayuki,JPX ; Yokoyama Kosuke,JPX ; Tanaka Shigeaki,JPX, Shutoff-opening devices and fluid control apparatus comprising such devices.

이 특허를 인용한 특허 (10)

  1. Bang,Won; Wang,Yen Kun; Ghanayem,Steve, Clog-resistant gas delivery system.
  2. Loeffler, Stephen D.; Wolf, Seth B.; Albrecht, Charles W., Close-coupled purgeable vaporizer valve.
  3. Wu, Rei-Young Amos; Dhruv, Ashok Shashikant; Konopacki, Paul; Mastio, Michael J.; Schutzenhofer, Richard, Efficient liquid processing system.
  4. Wu, Rei-Young Amos; Dhruv, Ashok Shashikant; Konopacki, Paul; Mastio, Michael J.; Schutzenhofer, Richard, Efficient liquid processing system.
  5. Hong, Sukwon; Tran, Toan; Mallick, Abhijit; Liang, Jingmei; Ingle, Nitin K., Low shrinkage dielectric films.
  6. Stoeters, Wolfgang; Yu, Ying; Knoll, Silke, Method for washing a microfluidic cavity.
  7. Bencher, Christopher Dennis; Luo, Lee, Methods and devices to reduce defects in dielectric stack structures.
  8. Eidsmore, Paul E., Modular surface mount manifold.
  9. Brouwer, Buck, Positive isolation through isolation of air supply to pneumatic valves.
  10. Nguyen, Hy B., System, method and apparatus for plumbing fitting with removable sampling valve.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로