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Gas treatment system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/06
출원번호 US-0632177 (2000-08-03)
우선권정보 JP-0221335 (1999-08-04)
발명자 / 주소
  • Teisuke Maekawa JP
출원인 / 주소
  • Taikisha Ltd. JP
대리인 / 주소
    Webb Ziesenheim Logsdon Orkin & Hanson, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 7

초록

A gas treatment system for separating and eliminating gaseous hydrocarbon from treatment-object gas exhausted from, for example, a factory is disclosed. The system includes a rotary adsorbing-desorbing concentration device including a gas-permeable adsorbing rotor having adsorbent as a main componen

대표청구항

1. A gas treatment system comprising:a rotary adsorbing-desorbing concentration device including a gas-permeable adsorbing rotor having adsorbent as a main component thereof, the rotor having in a rotational region thereof an adsorbing area for allowing passage of treatment-object gas containing gas

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Jacquish William W. (Schaumberg IL), Air cleaning system.
  2. Osborne John B. (Allentown PA), Apparatus and method for recovering volatile liquid.
  3. Izumo Masanori (Neyagawa JPX), Apparatus for solvent recovery.
  4. Tsujimoto Soichiro (Ohtsu JPX), Method for adsorption treatment of gas.
  5. Gutjahr Rolf (Hirschlanden DEX) Bhatnagar Satpal (Rosswag DEX), Method of and a device for separating paint residuals and solvents from the exhaust air of a paint spray chamber.
  6. Akamatsu Mikio,JPX ; Seki Kenji,JPX ; Hata Taketo,JPX, Organic solvent recovering system and organic solvent recovering method.
  7. Tanaka Shinpei (Neyagawa JPX) Morimoto Hirofumi (Hirakata JPX), Rotary adsorption/desorption gas treating apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Dunne,Stephen R.; Coughlin,Peter K.; Sethna,Rustam H., Adsorption process for continuous purification of high value gas feeds.
  2. Chou, Ming-Shean; Quigley, Peter A.; Nolet, Stephen C.; Wideman, Thomas W., Treatment system for waste gas containing volatile organic compounds.
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