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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0507154 (2000-02-18) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 7 |
A Method for Improving the efficiency of a silicon purification process is by controlling the temperature and composition of the effluent to a feedstock recovery composition and temperature, rapidly quenching the effluent at or near the recovery composition, separating the gases from the liquids, se
1. A method for improving the efficiency of a silicon purification process comprising:providing a silicon deposition reactor; feeding a first source gas containing one or more hydrohalosilanes into the silicon deposition reactor; producing a deposit of silicon and a first effluent gas having less hy
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