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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0589013 (2000-06-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 78 인용 특허 : 12 |
A process for manufacturing a silicon-on-insulator substrate and semiconductor devices on said substrate from thermally oxidized silicon wafer so that processing temperatures are limited to 900.degree. C. is disclosed. The substrate is fabricated using H2 split process. Processing temperatures are l
1. A process for manufacturing a silicon-on-insulator substrate and semiconductor devices on said substrate from silicon wafers comprising:providing a first silicon wafer thermal oxidizing of first silicon wafer in a dry ambient to obtain a thickness of the silicon dioxide layer 0.1 to 1 micrometer;
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