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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0242699 (1999-04-26) |
우선권정보 | JP-0225290 (1996-08-27) |
국제출원번호 | PCT/JP97/02961 (1997-08-26) |
§371/§102 date | 19990426 (19990426) |
국제공개번호 | WO98/08789 (1998-03-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 6 |
A process for refining difluoromethane by removing hydrogen fluoride, which is contained in difluoromethane difficult to remove. The process involves distilling a mixture of difluoromethane with hydrogen fluoride where the mixture is in contact with sulfuric acid. The hydrogen fluoride remains in th
1. A process for reducing hydrogen fluoride content in a mixture of difluoromethane and hydrogen fluoride, which comprises contacting a first mixture comprising difluoromethane and hydrogen fluoride having a hydrogen fluoride content of not larger than 1% by weight with sulfuric acid at a pressure i
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