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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0968846 (2001-10-03) |
우선권정보 | JP-0362707 (1998-12-21); JP-0331107 (1999-11-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 3 |
A cerium oxide slurry for polishing comprising cerium oxide dispersed in water, wherein the slurry has a conductivity of about 30c .mu.S/cm or less when the cerium oxide concentration in the slurry is c wt. %. In order to adjust the conductivity to about 30c .mu.S/cm or less, cerium oxide is washed
1. A process for producing a cerium oxide slurry for polishing, said slurry comprising cerium oxide dispersed in water, which process comprises the steps of washing cerium oxide with deionized water, and dispersing the thus-washed cerium oxide in water to form a slurry, thereby controlling the condu
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