[특허]Cerium oxide slurry for polishing, process for preparing the slurry, and process for polishing with the slurry

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[미국특허] Cerium oxide slurry for polishing, process for preparing the slurry, and process for polishing with the slurry 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C09K-003/14 C09G-001/02 C09G-001/04
출원번호	US-0968846 (2001-10-03)
우선권정보	JP-0362707 (1998-12-21); JP-0331107 (1999-11-22)
발명자 / 주소	Takanori Kido JP Masayuki Sanbayashi JP Fumio Tsujino JP Kagetaka Ichikawa JP
출원인 / 주소	Showa Denko K.K. JP
대리인 / 주소	Sughrue Mion, PLLC
인용정보	피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 3

초록 ▼

A cerium oxide slurry for polishing comprising cerium oxide dispersed in water, wherein the slurry has a conductivity of about 30c .mu.S/cm or less when the cerium oxide concentration in the slurry is c wt. %. In order to adjust the conductivity to about 30c .mu.S/cm or less, cerium oxide is washed

대표청구항 ▼

1. A process for producing a cerium oxide slurry for polishing, said slurry comprising cerium oxide dispersed in water, which process comprises the steps of washing cerium oxide with deionized water, and dispersing the thus-washed cerium oxide in water to form a slurry, thereby controlling the condu

이 특허에 인용된 특허 (3)

Tastu Francis (Nieul/sur/Mer FRX) Mlard Pierre (Courbevoie FRX), Ceric oxide/cerous salt organic glass polishing compositions.
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Shimomura Mariko (Yokohama JPX) Miyashita Naoto (Yokohama JPX) Ohashi Hiroyuki (Kamakura JPX), Chemical-mechanical polishing (CMP) method for controlling polishing rate using ionized water, and CMP apparatus.
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Sandusky James S. (Parma OH) Nilchian Mohammad (Woodland Hills CA), Water-based polish.
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이 특허를 인용한 특허 (6)

Paik, Un Gyu; Park, Jea Gun; Kim, Sang Kyun; Kim, Ye Hwan; Suh, Myoung Won; Kim, Dae Hyeong, CMP slurry, preparation method thereof and method of polishing substrate using the same.
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Feng, Xiangdong; Her, Yie-Shein; Yang, Yi, Hydrothermal synthesis of cerium-titanium oxide for use in CMP.
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Noh,Jun Seok; Kwon,Tae Hyun; Cho,Seung Beom; Hong,Hye Jeong; Han,Dae Gon, Method for preparing single crystalline cerium oxide powders.
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Kim, Dae Hyeong; Hong, Seok Min; Jeon, Jae Hyun; Park, Un Gyu; Park, Jea Gun; Kim, Yong Kuk, Polishing slurry, method of producing same, and method of polishing substrate.
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Kim,Dae Hyung; Hong,Seok Min; Jeon,Jae Hyun; Kim,Ho Seong; Park,Hyun Soo; Paik,Un Gyu; Park,Jae Gun; Kim,Yong Kuk, Polishing slurry, method of producing same, and method of polishing substrate.
상세보기
Kim,Dae Hyeong; Hong,Seok Min; Jeon,Jae Hyun; Kim,Ho Seong; Park,Hyun Soo; Paik,Un Gyu; Park,Jae Gun; Kim,Yong Kuk, Slurry for CMP and method of polishing substrate using same.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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