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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0543246 (2000-04-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 22 |
A method for removing trace moisture from a gas is disclosed. The method involves heating a zeolite having a high silica-to-alumina ratio to about 400.degree. C. to remove physically adsorbed water from the zeolite, followed by heating the zeolite to a temperature in excess of 650.degree. C., to for
1. A method for preparing a zeolite having a low concentration of at least one metallic impurity, wherein the zeolite has a silica-to-alumina ratio of above about 10, the method comprising: (a) heating the zeolite to a temperature of at least about 400.degree. C. for a period of time sufficient to d
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