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Sputtering alloy films using a crescent-shaped aperture 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
출원번호 US-0692293 (2000-10-19)
발명자 / 주소
  • Robert O. Pichulo
  • Gregory Keller Rasmussen
  • Mark Ray McClanahan
출원인 / 주소
  • Delphi Technologies, Inc.
대리인 / 주소
    John A. VanOphem
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 7

초록

A method and system for producing thin film alloy by a sputtering deposition process comprising using a crescent-shaped aperture interposed between the target and substrate of a sputtering deposition system.

대표청구항

1. A system for forming a thin film deposit of an alloy on a substrate by using a sputtering deposition process comprising:a deposition chamber having a vacuum enclosure; a means for evacuating the vacuum enclosure; a magnetron cathode; a target mounted on the magnetron cathode and having a surface

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. AbuJudom ; II David N. (Brookfield WI) Thoma Paul E. (Cedarburg WI) Kao Ming-Yuan (Fox Point WI) Angst David R. (West Allis WI), High transformation temperature shape memory alloy.
  2. Ichihara Katsutaro,JPX ; Tateyama Kohichi,JPX ; Sakai Ryo,JPX ; Ishigami Takashi,JPX, Magnetron sputtering method and sputtering target.
  3. Woodward Danny L. (Huntsville AL) Thrasher Chester (Elora TN), Mask and method for making gradient sputtered coatings.
  4. Fujino Takuo (Akishima JPX), Method of manufacturing shaped body having straight stripes.
  5. Peterseim Jrgen (Dsseldorf DEX) Schlump Wolfgang (Essen DEX), Shape memory alloy.
  6. Busch John D. (Berkeley CA) Johnson Alfred D. (Berkeley CA), Shape-memory alloy micro-actuator.
  7. Chatterjee Dilip K. (Rochester NY) Rao Srinivas T. (Los Gatos CA), Sputtering targets for magneto-optic films and a method for making.

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Elzey,Dana M.; Wadley,Haydn N. G., Active energy absorbing cellular metals and method of manufacturing and using the same.
  2. Marton, Denes; Boyle, Christopher T.; Wiseman, Roger W.; Banas, Christopher E., High strength vacuum deposited nitinol alloy films and method of making same.
  3. Marton,Denes; Boyle,Christopher T.; Wiseman,Roger W.; Banas,Christopher E., High strength vacuum deposited nitinol alloy films and method of making same.
  4. Wadley, Haydn N. G.; Queheillalt, Douglas T.; Haj-Hariri, Hossein; Evans, Anthony G.; Peterson, George P.; Kurtz, Robert; Long, G. Douglas; Murty, Yellapu V., Method and apparatus for jet blast deflection.
  5. Druz, Boris; Kanarov, Viktor; Hegde, Hariharakeshave S.; Hayes, Alan V.; Lakios, Emmanuel, Method and apparatus for surface processing of a substrate.
  6. Druz, Boris; Fremgen, Jr., Roger P.; Hayes, Alan V.; Kanarov, Viktor; Krause, Robert; Reiss, Ira; Sferlazzo, Piero, Method and apparatus for surface processing of a substrate using an energetic particle beam.
  7. Chang, Shih-Chia; Harrington, Marie I.; Eddy, David Sturge; Putty, Michael W.; Kempisty, Jeffrey M, Microactuator having a ferromagnetic substrate.
  8. Elzey, Dana M.; Wadley, Haydn N. G., Reversible shape memory multifunctional structural designs and method of using and making the same.
  9. Murata, Shinji, Semiconductor device contact resistant to deterioration due to heat and method for manufacturing contact.
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