[특허]Method for treating surfaces of substrates and apparatus

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Method for treating surfaces of substrates and apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-007/00
출원번호	US-0709130 (2000-11-08)
우선권정보	DE-0057034 (1999-11-26)
발명자 / 주소	Angelika Roth-Folsch DE Erich Arnold DE
출원인 / 주소	Heraeus Noblelight GmbH DE
대리인 / 주소	Fulbright & Jaworski L.L.P.
인용정보	피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 7

초록 ▼

A method and apparatus for the treatment of surfaces of substrates of organic or inorganic materials, reactive fragments such as radicals or ions are produced by ultraviolet radiation from at least one ultraviolet radiator disposed at a given distance. The radiator has a gas-filled, elongated discharge chamber whose walls are formed by a dielectric, and the ultraviolet radiator is provided on the side facing away from the discharge chamber with at least one electrode. During irradiation, a translational and/or rotatory relative movement is performed between the substrate and the ultraviolet radiator at a comparatively slight distance between radiator and substrate surface, in order to achieve, in a simple manner, an intense and uniform illumination of the surface being irradiated. The treatment is directed especially to silicon substrates or glass substrates.

대표청구항 ▼

1. A method for treating a surface of an organic or inorganic substrate comprising:producing reactive fragments by irradiating molecules with ultraviolet radiation produced by at least one ultraviolet radiator as a discharge lamp disposed at a distance away from the substrate, said ultraviolet radiator having a gas-filled, elongated discharge chamber having walls formed by a dielectric, said ultraviolet radiator having at least one electrode on a side facing away from said elongated discharge chamber, wherein during irradiation at least one of a translational or rotary relative movement takes place between the substrate and the ultraviolet radiator.

이 특허에 인용된 특허 (7)

Eliasson Baldur (Birmenstorf CHX) Erni Peter (Baden CHX) Hirth Michael (Unterentfelden CHX) Kogelschatz Ulrich (Hausen CHX), High-power radiator.
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Eliasson Baldur (Birmenstorf CHX) Erni Peter (Baden CHX) Hirth Michael (Unterentfelden CHX) Kogelschatz Ulrich (Hausen CHX), High-power radiator.
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Boquillon Jean-Pierre (Dijon FRX) Berger Hubert (Saint Apollinaire FRX) Bresson Philippe (Dijon FRX), Method and a device for cleaning a surface with a laser.
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Cates Michael C. (Solana Beach CA) Hamm Richard R. (San Diego CA) Lewis Michael W. (Wichita KS) Schmitz Wayne N. (St. Louis MO), Method and system for removing a coating from a substrate using radiant energy and a particle stream.
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Yeung Flora (Agoura Hills CA) Jackson Meryl R. (Carriere MS), Method for removing organic deposits from sand particles with laser beam.
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Suzuki Masaaki,JPX, Method of cleaning substrate using ultraviolet radiation.
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Hiramoto Tatsumi (Tokyo JPX) Igarashi Tatsushi (Himeji JPX) Matsuno Hiromitsu (Himeji JPX) Matsushima Takeo (Takasago JPX) Iso Shinichi (Takasago JPX), Process for oxidation of an article.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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