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Method for recovering an organic solvent from an acidic waste stream such as in integrated chip manufacturing 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-007/19
  • C07C-029/74
출원번호 US-0585237 (2000-05-31)
발명자 / 주소
  • Anilkumar C. Bhatt
  • Jerome J. Wagner
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation
대리인 / 주소
    Connolly Bove Lodge & Hutz
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 12

초록

An organic solvent is separated from a waste stream comprising hydrofluoric acid, an organic solvent and etchant contaminants. The process comprises separating the hydrofluoric acid by subjecting the waste stream to at least one of the following processes:ion exchange;extraction of the hydrofluoric

대표청구항

1. A method for recovering an organic solvent from a waste stream comprising hydrofluoric acid, an organic solvent and etchant contaminants which comprises:a) separating the hydrofluoric acid by subjecting the waste stream to at least one process selected from the group consisting of ion exchange, e

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Ohmi Tadahiro (Sendai JPX) Harada Hiroyuki (Tokyo JPX) Miki Nobuhiro (Osaka JPX) Fukutome Toshiro (Osaka JPX) Maeno Matagoro (Izumi JPX) Terasawa Norio (Tokyo JPX) Eto Yoshihiro (Kanagawa JPX) Sakata, Apparatus for recovering calcium fluoride from fluoroetchant.
  2. Shurtleff James A. (Endwell NY) Unger Kevin P. (Endicott NY), Chemical pre-treatment and biological destruction of propylene carbonate waste streams effluent streams to reduce the bi.
  3. Ewing Paul Nicholas,GBX ; Shields Charles John,GBX ; Roberts Christopher,GBX, Hydrogen fluoride recovery process.
  4. Grant Donald C. (Excelsior MN), Point-of-use recycling of wafer cleaning substances.
  5. Luly Mathew Hermes ; Mckown Jeffrey Warren ; Pratt Robert ; Singh Rajiv Ratna ; Kunkel Paul Frederick ; Redmon Charles Lewis ; Pham Hang Thanh, Process for hydrogen fluoride separation.
  6. Rath David L. ; Jagannathan Rangarajan ; McCullough Kenneth J. ; Okorn-Schmidt Harald F. ; Madden Karen P. ; Pope Keith R., Process for removing etching residues, etching mask and silicon nitride and/or silicon dioxide.
  7. Solinas Giampaolo (Castellanza ITX) Basile Giampiero (Alessandria ITX), Process for separating HF from its mixtures with hydrochlorofluorocarbons 123 and/or 124.
  8. Bantu Nageshwer R. (Endicott NY) Bhatt Anilkumar C. (Johnson City NY) Keesler Ross W. (Owego NY) Papathomas Konstantinos (Endicott NY) Sinclair Terry D. (Endicott NY) Wagner Jerome J. (Endicott NY), Propylene carbonate recovery process.
  9. Chang Chin-Hsiung (Palatine IL) Gualdron Miguel A. (Skokie IL), Recovery of HF from aqueous streams.
  10. Keller Alfred E. (Ponca City OK), Recovery of HF from hydrocarbon streams.
  11. English Joseph J. (Sycamore IL), Removing organic components from an aqueous cleaning solution.
  12. Bhatt Anilkumar C. (Johnson City NY) Papathomas Kostas I. (Endicott NY) Sinclair Terry D. (Endicott NY) Wagner Jerome J. (Endicott NY), Solvent stabilization process and method of recovering solvent.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Bhatt, Anilkumar C.; Wagner, Jerome J., Method for recovering an organic solvent from a waste stream containing supercritical CO2.
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