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Directional flow control valve with recirculation for chemical-mechanical polishing slurries 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24B-001/00
출원번호 US-0730967 (2000-12-06)
발명자 / 주소
  • Charles F Lefky
출원인 / 주소
  • Parker-Hannifin Corporation
대리인 / 주소
    John A. Molnar, Jr.
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 21

초록

A valve particularly for use within a chemical-mechanical polishing (CMP) system for controlling the supply of slurry and de-ionized water streams while allowing for the constant recirculation of those streams. The valve includes a body having a bore with first and second inlet and outlet port openi

대표청구항

1. A method of controlling the flow of a slurry stream from a slurry reservoir and a water stream from a water reservoir in a chemical-mechanical polishing (CMP) system having a supply line for delivering the slurry and water streams to a polishing pad, said method comprising the steps of:(a) provid

이 특허에 인용된 특허 (21)

  1. Shimomura Mariko (Yokohama JPX) Miyashita Naoto (Yokohama JPX) Ohashi Hiroyuki (Kamakura JPX), Chemical-mechanical polishing (CMP) method for controlling polishing rate using ionized water, and CMP apparatus.
  2. Morgan ; III Clifford Owen (Burlington VT) Schmidt Dennis Arthur (South Burlington VT) Theodoseau Philip Nicholas (Richmond VT), Chemical-mechanical polishing apparatus with slurry removal system and method.
  3. Huang Chao-Yuan,TWX ; Peng Peng-Yih,TWX ; Wu Juan-Yuan,TWX, Circulation system of slurry.
  4. Andersen Hans Skov (Augustenborg DK), Control device for a hydraulically operated consumer.
  5. Maki Toshio (Yokohama JPX) Oki Isao (Kawasaki JPX) Shirai Kiyoshi (Tokyo JPX), Directional change-over valve.
  6. Faix James E. (Pittsburgh PA), Directional control valve.
  7. Gray ; Jr. Charles L., Fast valve and actuator.
  8. Hattori Noboru (Yokosuka JPX) Suzuki Yoshitomo (Yokohama JPX), Fluid control valve.
  9. Geyler ; Jr. Arthur H. (Dayton OH) Teach Ted L. (Dayton OH), Four-way valve with internal pilot.
  10. Govzman Boris Izrailevich (PROSPEKT Lenina ; 64a ; kv. 154 Kharkov SU) Ogloblin Ernst Aggeevich (ULITSA Krasnoarmeiskaya 12 ; kv. 9 Kharkov SU), Hydraulic control valve.
  11. Seddon Don,GBX, Hydraulic valves and systems.
  12. Corlett Gary L. ; Roberson ; Jr. Glenn A., Method and apparatus for recovery of water and slurry abrasives used for chemical and mechanical planarization.
  13. Malarz Antoni J. (Warren MI) Wright Dolph D. (Union Lake MI), Multiple function valve assembly.
  14. Pinder ; Jr. Harvey Wayne,TWX, Recovery device for polishing agent and deionizing water for a polishing machine.
  15. Blank Leon W. (Canfield OH), Remote valve operators.
  16. Adams John A. ; Krulik Gerald A. ; Harwood C. Randall, Rinse water recycling in CMP apparatus.
  17. Adams John A. ; Krulik Gerald A., Rinse water recycling method for semiconductor wafer processing equipment.
  18. Misumi Keiji,JPX ; Ishikawa Makoto,JPX, Servo driving pilot-type solenoid valve.
  19. Boswell William C. (420 E. 2nd Tulsa OK 74120), Shifting valve.
  20. Adams John A. (Escondido CA) Krulik Gerald A. (San Clemente CA) Harwood C. Randall (Tempe AZ), Slurry recycling in CMP apparatus.
  21. Yueh William, Slurry recycling system for chemical-mechanical polishing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Deng, David, Dual fuel heater with selector valve.
  2. Deng, David, Dual fuel heater with selector valve.
  3. Deng, David, Dual fuel heater with selector valve.
  4. Deng, David, Dual fuel heater with selector valve.
  5. Deng, David, Heating system.
  6. Deng, David, Heating system.
  7. Chao,Sandy Shih Hsun; Lee,Songjae; Shin,Ho Seon, Methods and apparatus for providing fluid to a semiconductor device processing apparatus.
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