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Radiation-curable, cyanoacrylate-containing compositions 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C09J-004/04
  • C08F-002/48
  • C08F-002/50
  • C08F-004/42
  • C08F-020/18
  • C08F-020/42
출원번호 US-0486423 (1999-10-20)
발명자 / 주소
  • Stan Wojciak
  • Shabbir Attarwala
출원인 / 주소
  • Loctite Corporation
대리인 / 주소
    Steven C. Bauman
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 21

초록

A radiation-curable composition which includes a cyanoacrylate component or a cyanoacrylate-containing formulation; a metallocene component; and a polymerizingly effective amount of a photoinitiator to accelerate the rate of cure is provided.

대표청구항

1. A composition comprising:(a) a 2-cyanoacrylate of the formula H2C.dbd.C(CN)-COOR, wherein R is selected from the group consisting of C1-15 alkyl, alkoxyalkyl, cycloalkyl, alkenyl, aralkyl, aryl, allyl and haloalkyl groups, (b) a metallocene, and (c) a polymerisingly effective amount of a photoini

이 특허에 인용된 특허 (21)

  1. Kutal Charles R., Anionic photoinitiation.
  2. Kutal Charles R. (Athens GA), Anionic photoinitiation.
  3. Kutal Charles R. (Athens GA), Anionic photoinitiation.
  4. Kaji Makoto (Hitachi JPX) Pappas S. Peter (West Hartford CT), Aryl triflate compound, radiologically acid producing agent, radiologically acid producing agent system, and radiosensit.
  5. Gatechair Leslie R. (Katonah NY) Blumenstein Gary M. (Mahopac NY) Schirmann Peter J. (Fairfield CT), Ferrocenium/alpha-cleavage photoinitiator systems for free radical polymerizable compositions.
  6. Hiraiwa Akihiko (Nagoya JPX) Ito Kenji (Nagoya JPX) Kimura Kaoru (Nagoya JPX), Method of bonding non-polar or highly crystalline resin substrates employing a primer and a cyanoacrylate adhesive.
  7. Mikuni Hiroyuki,JPX ; Nishiyama Yuko,JPX, Method of bonding or decorating artificial nail.
  8. Gottschalk, Peter; Neckers, Douglas C.; Schuster, Gary B.; Adair, Paul C.; Pappas, S. Peter, Method of dental treatment.
  9. Kimura Kaoru (Kuroishi JPX) Sakabe Kazuyuki (Tokai JPX), Novel 2-cyanoacrylate, process for producing same and curable composition comprising same.
  10. Zertani Rudolf (Mainz-Bretzenheim DEX) Mohr Dieter (Budenheim DEX), Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom.
  11. Gottschalk Peter (Centerville OH) Neckers Douglas C. (Perrysburg OH) Schuster Gary B. (Champaign IL) Adair Paul C. (Springboro OH) Pappas S. Peter (Fargo ND), Photosensitive materials and compositions containing ionic dye compounds as initiators and thiols as autooxidizers.
  12. Gottschalk Peter (Centerville OH) Neckers Douglas C. (Perrysburg OH) Schuster Gary B. (Champaign IL) Adair Paul C. (Springboro OH) Pappas S. Peter (Fargo ND), Photosensitive materials containing ionic dye compound as initiators.
  13. Rooney John M. (Naas IEX) Woods John (Stillorgan IEX) Conway Paul (Bury St. Edmunds GB2), Polymerizable acrylic compositions having vinyl ether additive.
  14. Bttcher Axel (Jena DEX) Uhlig Egon (Jena DEX) Fedtke Manfred (Merseburg DEX) Dring Manfred (Jena DEX) Dathe Klaus (Jena DEX) Nestler Bernd (Jena DEX), Polymerizable epoxide mixtures and process.
  15. Desobry Vincent (Marly CHX) Doggweiler Hans O. (Mhlin CHX), Process for the preparation of organometallic compounds.
  16. Desobry Vincent (Marly CHX) Doggweiler Hans O. (Mhlin CHX), Process for the preparation of organometallic compounds.
  17. Roth Martin (Giffers CHX) Meier Kurt (Allschwil CHX), Process for the production of relief structures using a negative photoresist based on polyphenols and epoxy compounds or.
  18. Pappas S. Peter ; Huang Jianbing ; Shah Ajay ; Saraiya Shashikant, Radiation sensitive diazo sulfo-acrylic adducts and method for producing a printing plate.
  19. Conway Paul (Dublin IEX) Melody David P. (Dublin IEX) Woods John (Dublin IEX) Casey J. Eisirt (Dublin IEX) Bolger Bernard J. (Dublin IEX) Martin Francis R. (Dublin IEX), Radiation-activatable anaerobic adhesive composition.
  20. Angelo Raymond W. (Endwell NY) Gelorme Jeffrey D. (Binghamton NY) Kuczynski Joseph P. (Apalachin NY) Lawrence William H. (Greene NY) Pappas Socrates P. (Fargo ND) Simpson Logan L. (Austin TX), Sulfonium salts and use and preparation thereof.
  21. Fujioka Hirofumi (Amagasaki JPX) Inoue Masami (Amagasaki JPX), Ultra-violet ray curing type resin composition.
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