[특허]Passivating etchants for metallic particles

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[미국특허] Passivating etchants for metallic particles 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23F-001/00
출원번호	US-0674061 (2001-03-12)
국제출원번호	PCT/US00/01742 (2000-01-21)
§371/§102 date	20010312 (20010312)
국제공개번호	WO00/43573 (2000-07-27)
발명자 / 주소	Douglas L. Schulz Calvin J. Curtis David S. Ginley
출원인 / 주소	Midwest Research Institute
대리인 / 주소	Paul J. White
인용정보	피인용 횟수 : 5 인용 특허 : 5

초록 ▼

The present invention provides a process for etching a corrosion layer, such as oxide or hydroxide, from and concomitantly forming a passivating layer on the surface of metallic nanoparticles. A reaction mixture is prepared by dispersing sodium hexafluoroacetylacetonate (Na(hfa)) and a metallic particle powder having oxide or hydroxide corrosion layers in hexane solvent. The mixture is allowed to react for a time sufficient to etch the oxide or hydroxide groups from the particulate surface and passivate the surfaces with (hfa). Hexane may be evaporated from the mixture and any excess Na(hfa) separated from the reaction mixture by sublimation or rinsing with a polar aprotic solvent. In an embodiment of the present invention, aluminum particles are first etched and passivated and then used to form ohmic contacts with p-type silicon. This etching/passivation improves the electrical properties of the contact.

대표청구항 ▼

1. A process for etching the corrosion layer from and concomitantly passivating the surface of metallic particles, comprising:a) forming a reaction mixture by dispersing particles, having a passivating surface layer, in a solution comprising sodium hexafluoroacetylacetonate (Na(hfa)) and hexane; and

이 특허에 인용된 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

Gordon Roy G., Liquid precursors for formation of metal oxides.
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Siedle Allen R. (Lake Elmo MN), Palladium (II) bis(hexafluoroacetylacetonate), adducts derived therefrom and uses thereof.
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Sandhu Gurtej S. (Boise ID), Process for deposition and etching of copper in multi-layer structures.
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Dyer Paul N. (Allentown PA) Fine Stephen M. (Emmaus PA) Norman John A. T. (Encinitas CA), Process for selectively depositing copper aluminum alloy onto a substrate.
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Norman John A. T. (Whitehall PA) Dyer Paul N. (Allentown PA), Processes for the chemical vapor deposition of copper and etching of copper.
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이 특허를 인용한 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

Brousseau, III,Louis, Enhanced nanocomposite combustion accelerant and methods for making the same.
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Ginley, David S.; Kaydanova, Tatiana; Miedaner, Alexander; Curtis, Calvin J.; van Hest, Marinus Franciscus Antonius Maria, Fabrication of contacts for silicon solar cells including printing burn through layers.
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Ginley, David S.; Curtis, Calvin J.; Miedaner, Alex; van Hest, Marinus Franciscus Antonius Maria; Kaydanova, Tatiana, Metal inks.
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Hammond, Scott Ryan; Olson, Dana C.; van Hest, Marinus Franciscus Antonius Maria, Methods for producing thin film charge selective transport layers.
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Steirer, K. Xerxes; Berry, Joseph J.; Chesin, Jordan P.; Lloyd, Matthew T.; Widjonarko, Nicodemus Edwin; Miedaner, Alexander; Curtis, Calvin J.; Ginley, David S.; Olson, Dana C., Solution processed metal oxide thin film hole transport layers for high performance organic solar cells.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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