[특허]Electrode for glow-discharge atmospheric-pressure plasma treatment

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01J-007/24
출원번호	US-0660003 (2000-09-12)
발명자 / 주소	Angelo Yializis Wolfgang Decker Michael G. Mikhael Shahid A. Pirzada
출원인 / 주소	Sigma Technologies International, Inc.
대리인 / 주소	Antonio R. Durando
인용정보	피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 11

초록 ▼

A porous metallic layer is incorporated in one of the electrodes of a plasma treatment system. A plasma gas is injected into the electrode at substantially atmospheric pressure and allowed to diffuse through the porous layer, thereby forming a uniform glow-discharge plasma. The film material to be treated is exposed to the plasma created between this electrode and a second electrode covered by a dielectric layer. Because of the micron size of the pores of the porous metal, each pore also produces a hollow cathode effect that facilitates the ionization of the plasma gas. As a result, a steady-state glow-discharge plasma is produced at atmospheric pressure and at power frequencies as low as 60 Hz. According to another aspect of the invention, vapor deposition is carried out in combination with plasma treatment by vaporizing a substance of interest, mixing it with the plasma gas, and diffusing the mixture through the porous electrode. A heater is used to maintain the temperature of the electrode above the condensation temperature of the substance to prevent deposition during diffusion. Thus, plasma treatment and vapor deposition can be carried out on a target substrate at the same time at atmospheric pressure.

대표청구항 ▼

1. An electrode assembly for producing a glow-discharge plasma in a process space adjacent thereto at substantially atmospheric pressure, comprising the following combination of components:a first electrode encased in a dielectric material facing said process space; a second electrode comprising a metallic porous layer facing said process space alongside the first electrode; means for applying a voltage across the electrodes; and means for diffusing a plasma gas through the metallic porous layer into the process space at substantially atmospheric pressure.

이 특허에 인용된 특허 (11) 인용/피인용 타임라인 분석

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Roth John Reece (Knoxville TN), Method and apparatus for covering bodies with a uniform glow discharge plasma and applications thereof.
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Roth John R. (Knoxville TN) Tsai Peter P. (Knoxville TN), Method and apparatus for glow discharge plasma treatment of polymer materials at atmospheric pressure.
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Roth John R. (Knoxville TN) Tsai Peter P. (Knoxville TN) Wadsworth Larry C. (Knoxville TN) Liu Chaoya (Knoxville TN) Spence Paul D. (Knoxville TN), Method and apparatus for glow discharge plasma treatment of polymer materials at atmospheric pressure.
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Glocker David A. (West Henrietta NY) Romach Mark M. (Rochester NY), Near atmospheric pressure treatment of polymers using helium discharges.
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Glocker David Appler ; Romach Mark M., Near atmospheric pressure treatment of polymers using helium discharges.
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Roth John R. (Knoxville TN) Tsai Peter P. (Knoxville TN) Liu Chaoyu (Knoxville TN) Laroussi Mounir (Knoxville TN) Spence Paul D. (Knoxville TN), One atmosphere, uniform glow discharge plasma.
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Iwamura Naoyuki,JPX ; Aoki Yasutsugu,JPX, Plasma treatment apparatus and method.
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Roth John R. (Knoxville TN) Tsai Peter P. (Knoxville TN) Liu Chaoyu (Knoxville TN), Steady-state, glow discharge plasma.
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Yuasa Motokazu,JPX ; Yara Takuya,JPX, Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof.
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이 특허를 인용한 특허 (16) 인용/피인용 타임라인 분석

Mikhael,Michael G.; Yializis,Angelo; Ellwanger,Richard E., Atmospheric glow discharge with concurrent coating deposition.
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Choi, Bum Ho; Lee, Jong Ho; Bae, Jung Chan; Park, Yong-Seok; Park, Chun-Seong; Kim, Woo Sam; Lee, Gil Sik; Overzet, Lawrence John; Lee, Byeong Jun, Atmospheric pressure plasma apparatus.
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Mikhael, Michael G.; Yializis, Angelo; Ellwanger, Richard E., Barrier coatings produced by atmospheric glow discharge.
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Malik, Muhammed Arif; Schoenbach, Karl H., Device and method for gas treatment using pulsed corona discharges.
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Buchanan, Walter Riley; Hruska, Christopher Daniel, Distributed dielectric barrier discharge reactor.
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David, Moses M.; Buccellato, Gina M.; Huberty, John S.; Kirk, Seth M., Fluorinated porous article.
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Zhao, Haibo; Blanchard, Patrick James, Heated air plasma treatment.
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Burger, Kurt; Schneider, Guenter; Neidhardt, Ronald; Hauser, Manfred; Burghoff, Klaus; Grosse, Stefan; Schattke, Alexander; Henke, Sascha; Bayer, Christian; Schmautz, Oliver, Method for plasma coating an object of elastomeric material.
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Kuriyama, Noboru, Method of detecting an arc in a glow-discharge device and apparatus for controlling a high-frequency arc discharge.
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David, Moses M.; Buccellato, Gina M.; Huberty, John S.; Kirk, Seth M., Plasma fluorination treatment of porous materials.
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Buchanan, Walter Riley, Plasma reactor for liquid and gas.
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Park, Jaeyoung; Henins, Ivars, Production of stable, non-thermal atmospheric pressure rf capacitive plasmas using gases other than helium or neon.
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Buchanan, Walter Riley; Forsee, Grant William, Quasi-resonant plasma voltage generator.
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Jung, Suk-Won; Huh, Myung-Soo; Jang, Choel-Min, Vapor deposition apparatus, deposition method, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same.
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A	생활필수품
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A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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