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[미국특허] System and method for selectively increasing surface temperature of an object 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/26
  • H01L-021/42
출원번호 US-0139934 (1998-08-26)
발명자 / 주소
  • Don Carl Powell
출원인 / 주소
  • Micron Technology, Inc.
대리인 / 주소
    Schwegman, Lundberg, Woessner & Kluth, P.A.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 8

초록 ▼

A system and method for selectively increasing the thermal effect of a radiant energy source to the surface of an object relative to the substrate is described in the context of rapid thermal processing of semiconductor wafers, and apparatus produced therefrom. A radiation-absorptive atmosphere is i

대표청구항 ▼

1. A method of heating an object, comprising:placing an object having a surface within a heating chamber such that the object is contained within the chamber; providing a radiation-absorptive atmosphere within the chamber, the radiation-absorptive atmosphere comprising a specifically controlled mixt

이 특허에 인용된 특허 (8) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Stevens E. Henry (Colorado Springs CO), Capacitors and interconnect lines for use with integrated circuits.
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  2. Grant Robert W. (Excelsior MN) Novak Richard E. (Plymouth MN), Cluster tool dry cleaning system.
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  3. Thakur Randhir P. S. (Boise ID), Control and 3-dimensional simulation model of temperature variations in a rapid thermal processing machine.
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  4. Thakur Randhir P. S. (Boise ID), Control and 3-dimensional simulation model of temperature variations in a rapid thermal processing machine.
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  5. Welt Glenn (1117 Perimeter Cir. W. ; Suite N122 Atlanta GA 30346), Full body tanning apparatus.
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  6. Thakur Randhir P. S. (Boise ID) Gonzalez Fernando (Boise ID), Method for optimizing thermal budgets in fabricating semiconductors.
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  7. Thakur Randir P. S. (Boise ID) Gonzalez Fernando (Boise ID), Method for optimizing thermal budgets in fabricating semiconductors.
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  8. Imai Shinichi (Osaka JPX) Terai Yuka (Osaka JPX) Fukumoto Masanori (Osaka JPX) Yano Kousaku (Osaka JPX) Umimoto Hiroyuki (Osaka JPX) Odanaka Shinji (Osaka JPX) Mizuno Yasuo (Osaka JPX), Semiconductor device and process.
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이 특허를 인용한 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Palfenier, Ronald A.; Nystrom, Patrick J., Method of optical pyrometry that is independent of emissivity and radiation transmission losses.
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  2. Palsulich, David A.; Baldner, Ronald F., Microfeature workpiece processing system for, e.g., semiconductor wafer analysis.
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  3. Palsulich, David A.; Baldner, Ronald F., Microfeature workpiece processing system for, e.g., semiconductor wafer analysis.
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