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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0624478 (2000-07-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 42 인용 특허 : 7 |
A fluid distribution system for supplying a gas to a process facility such as a semiconductor manufacturing plant. The system includes a main fluid supply vessel coupled by flow circuitry to a local sorbent-containing supply vessel from which fluid, e.g., low pressure compressed gas, is dispensed to
1. A fluid supply system for supplying fluid to a point-of-use fluid-consuming unit, said system comprising:a main fluid supply vessel; a local supply vessel, containing a physical sorbent having affinity for said fluid; first flow circuitry interconnecting the main fluid supply vessel and the local
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