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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0677041 (2000-09-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 5 |
In the formation of multilevel LIGA microstructures, a preformed sheet of photoresist material, such as polymethylmethacrylate (PMMA) is patterned by exposure through a mask to radiation, such as X-rays, and developed using a developer to remove the exposed photoresist material. A first microstructu
1. A method of forming a multi-layered LIGA microstructure on a plating base comprising the steps of:(a) providing a first level microstructure having raised conductive portions; (b) covering and surrounding the first level microstructure with a conductive polymer layer; (c) machining the conductive
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