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[미국특허] Method and apparatus for cleaning flat workpieces 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/10
출원번호 US-0166819 (1998-10-05)
발명자 / 주소
  • D'Arcy H. Lorimer
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 12

초록 ▼

A semiconductor deposition system in accordance with the present invention includes a CMP apparatus operative to planarize an active surface of a semiconductor wafer, and a wafer cleaner for cleaning wafer after the CMP process. The wafer cleaner preferably includes a wafer rotating mechanism, a ste

대표청구항 ▼

1. A workpiece cleaning system comprising:a workpiece holding mechanism including a plurality of workpiece edge engaging members; a rotator mechanism coupled to said gripping members to rotate a planar workpiece engaged by said edge engaging members around an axis of rotation that is substantially p

이 특허에 인용된 특허 (12) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Chiu Wei-Kay,TWX, Acoustic wave enhanced developer.
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  2. Ham ; William Edward, Apparatus and method for cleaning and drying semiconductors.
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  3. Toshima Masato, Apparatus and method for cleaning semiconductor wafers.
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  4. Yoshitani Mitsuaki,JPX ; Kinose Kazuo,JPX ; Tanaka Satoru,JPX ; Morinishi Kenya,JPX ; Miyagi Masahiro,JPX ; Itami Naoshige,JPX ; Watanabe Kazuhiro,JPX, Apparatus for and method of cleaning substrate.
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  5. Hayes Michael E. ; Hosman Donald P. ; Hrebenar Kevin R. ; Sell Robert D., Cleaning with solvating and rinsing agents.
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  6. Ballantine Arne W. ; Warren Ronald A., Cryogenic/phase change cooling for rapid thermal process systems.
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  7. Ham William E. (Mercerville NJ), Method for cleaning and drying semiconductors.
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  8. Paranjpe Ajit P. (Plano TX), Method for cleaning semiconductor wafers using liquified gases.
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  9. Kunze-Concewitz Horst,DEX, Method of cleaning surfaces with water and steam.
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  10. Goenka Lakhi Nandlal, Method of mitigating electrostatic charge during cleaning of electronic circuit boards.
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  11. Gardner Keith R. (San Antonio TX), Vapor/liquid phase separator for an open tank IPA-dryer.
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  12. Hamada Satomi,JPX ; Maekawa Toshiro,JPX, Washing method and washing apparatus.
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이 특허를 인용한 특허 (15) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Wakatsuki, Takahiko; Hayamizu, Naoya; Fujita, Hiroshi; Saito, Akiko; Hayashi, Toshihide; Nishibe, Yukinobu; Makino, Tsutomu, Apparatus and method for photoresist removal processing.
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  2. Verhaverbeke, Steven; Truman, J Kelly; Lane, Christopher T; Somekh, Sasson R, Method and apparatus for processing a wafer.
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  3. Verhaverbeke,Steven; Truman,J Kelly; Lane,Christopher T; Somekh,Sasson R, Method and apparatus for processing a wafer.
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  4. Verhaverbeke, Steven; Truman, J. Kelly; Ko, Alexander; Endo, Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
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  5. Verhaverbeke, Steven; Truman, J. Kelly; Ko, Alexander; Endo, Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
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  6. Verhaverbeke,Steven; Truman,J. Kelly; Ko,Alexander; Endo,Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
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  7. Verhaverbeke,Steven; Truman,J. Kelly; Ko,Alexander; Endo,Rick R., Method and apparatus for wafer cleaning.
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  8. Sung, Chien-Min, Methods for enhancing chemical mechanical polishing pad processes.
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  9. Woods, Carl; de Larios, John, Methods for substrate processing in cluster tool configurations having meniscus application systems.
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  10. Sung, Chien-Min; Pai, Yang-Liang, Pad conditioner dresser.
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  11. Ono, Yuji; Ohkura, Ryoichi, Single wafer type cleaning method and apparatus.
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  12. Zuck, David S.; Macura, Kurtis R., Steam cleaning system and method for semiconductor process equipment.
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  13. Zuck, David S.; Macura, Kurtis R., Steam cleaning system and method for semiconductor process equipment.
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  14. Zuck,David S.; Macura,Kurtis R., Steam cleaning system and method for semiconductor process equipment.
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  15. Kim,Yong Bae; Kim,Jungyup; Lee,Yong Ho; Jeong,In Kwon, System and method for wet cleaning a semiconductor wafer.
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