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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0587165 (2000-06-02) |
우선권정보 | JP-0178014 (1999-06-24); JP-0314876 (1999-11-05); JP-0122291 (2000-04-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 34 인용 특허 : 3 |
Apparatus and methods are disclosed for inspecting semiconductor wafers and other types of specimens using parallel charged particle beams (e.g., electron beams). An emitter array, including multiple charged-particle-beam (CPB) emitters produces multiple beams that propagate along respective beam ax
1. An apparatus for inspecting a surface of a specimen, the apparatus comprising:an emitter array comprising multiple charged-particle emitters each configured to emit simultaneously a separate individual charged particle beam along a separate respective beam axis; first and second electromagnetic l
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