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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | F04B-037/02 F04F-011/00 |
미국특허분류(USC) | 417/048; 417/053 |
출원번호 | US-0202668 (1998-12-18) |
우선권정보 | FR-0007625 (1996-06-19) |
국제출원번호 | PCT/EP97/03180 (1997-06-18) |
§371/§102 date | 19981218 (19981218) |
국제공개번호 | WO97/49109 (1997-12-24) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 7 |
The invention discloses a pumping device by non-vaporizable getter to create a very high vacuum in a chamber defined by a metal wall capable of releasing gas at its surface, characterized in that it comprises a thin layer of non-vaporizable getter coated on at least almost the whole metal wall surface defining the chamber.
1. A process for using a non-evaporable getter to create, due to a getter function, a very high vacuum in a chamber defined by a metal wall capable of releasing gas at a surface thereof, said non-evaporable getter being deposited on at least a majority of said chamber wall surface, the process comprising:(a) cleaning the chamber; (b) placing in the chamber a cathode sputtering device capable of coating the chamber; (c) creating .a vacuum in the chamber and dehydrating the chamber; (d) depositing a thin screen coating of a non-evaporable getter by cathode...