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Method and apparatus for modifying particles 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/448
출원번호 US-0196954 (1998-11-20)
우선권정보 JP-0343446 (1997-12-12)
발명자 / 주소
  • Takahiro Horiuchi JP
  • Kiyofumi Morimoto JP
출원인 / 주소
  • Sharp Kabushiki Kaisha JP
대리인 / 주소
    Dike, Bronstein, Roberts & Cushman/IP Group of Edwards & Angell
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 8

초록

Particles are cooled at a particle introducing section by a cooling device. A vapor of modifying agent for modifying the particles is produced by heating the modifying agent in a vapor producing chamber by a heating device. Further, a supersaturated vapor of the modifying agent is produced around th

대표청구항

1. A particle modifying apparatus comprising:a mixing section for mixing cooled particles with a saturated vapor of a modifying agent for modifying the particles to let the modifying agent condense on a surface of the particles; a particle introducing section for introducing the particles into said

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Hsu George C. (La Crescenta CA) Levin Harry (Woodland Hills CA) Hogle Richard A. (Arcadia CA) Praturi Ananda (Monrovia CA) Lutwack Ralph (Sunland CA), Fluidized bed silicon deposition from silane.
  2. Heath William O. (Richland WA) Virden ; Jr. Judson W. (Richland WA) Richardson R. L. (West Richland WA) Bergsman Theresa M. (Richland WA), Method and apparatus for chemically altering fluids in continuous flow.
  3. Blouin Glenn M. (Florence AL), Method for applying coatings to solid particles.
  4. Kaneko Kyojiro (Osaka JPX) Mizumoto Hideyuki (Osaka JPX) Misawa Teruoki (Hyogo JPX), Method for producing silicon single crystal from polycrystalline rod formed by continous casting.
  5. Luthra Krishan L. (Schenectady NY) Spacil Henry S. (Tokyo JPX), Method of removing alkali metal contamination from a gaseous stream.
  6. Leuenberger Hans (Pfeffingen CHX), Process of treating a particulate material and apparatus for implementing the process.
  7. Iya Sridhar K. (Vancouver WA), Reactor for fluidized bed silane decomposition.
  8. Ishikawa Akira, Spherical shaped semiconductor integrated circuit.
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