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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0440103 (1999-11-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 3 |
A programmable device and methods for making the programmable device are provided. The programmable device includes a link metallization line with an oxide layer defined above the link metallization line. A via hole is patterned in the oxide layer which defines a path to the link metallization line.
1. A method for making a programmable device comprising:forming a link metallization line; depositing an oxide layer over the link metallization line; forming a conductive via in the oxide layer in communication with the metallization line; forming a programming metallization line over the oxide lay
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