[특허]In-situ air oxidation treatment of MOCVD process effluent

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In-situ air oxidation treatment of MOCVD process effluent 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C01B-007/00 B01D-053/54
출원번호	US-0717439 (2000-11-21)
발명자 / 주소	Rebecca Faller Mark Holst
출원인 / 주소	Advanced Technology Materials, Inc.
대리인 / 주소	Oliver A. Zitzmann
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 21

초록 ▼

An effluent abatement system for abating hydride species in a hydride-containing effluent, arranged for carrying out the steps of: (1) contacting the hydride-containing effluent with a dry scrubber material comprising a metal oxide that is reactive with the hydride species to remove the hydride species from the effluent, until the capacity of the dry scrubber material for hydride species is at least partially exhausted; and (2) contacting the at least partially exhausted capacity dry scrubber material with an oxidant to at least partially regain the capacity of the dry scrubber material for the hydride species. The system of the invention has particular utility in the treatment of effluent from III-V compound semiconductor manufacturing operations.

대표청구항 ▼

1. An effluent abatement and regeneration process for abating hydride species in a hydride-containing effluent, said process comprising: (1) contacting the hydride-containing effluent with a dry scrubber material comprising a metal oxide that is reactive with the hydride species to substantially remove the hydride species from the effluent, until the capacity of the dry scrubber material for hydride species is at least partially exhausted, and (2) contacting at least partially exhausted capacity dry scrubber material with clean, dry air to at least partially regain the capacity of the dry scrubber material for the hydride species wherein step (2) is conducted on an at least partially exhausted dry scrubber material at essentially the same time as step (1) is conducted on dry scrubber material comprising a metal oxide that is reactive with the hydride species, wherein in the effluent abatement and regeneration process further comprising thermally managing the contacting steps (1) and (2) to maintain a temperature of the dry scrubber material below 100.degree. C.

이 특허에 인용된 특허 (21)

Moore Robert R. ; Getty James D. ; Safiullin Ravil, Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants.
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Tom Glenn M. (New Milford CT) McManus James V. (Danbury CT) Luxon Bruce A. (Stamford CT), Composition, apparatus, and process, for sorption of gaseous compounds of group II-VII elements.
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Gkcek Cetin (Muhlheim DEX), Copper sulfate absorption mass to remove AsH₃, PH₃, B₂H₆, GeH 상세보기

Goozner Robert E., Destruction of volatile organic carbons.
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Tom Glenn M. ; McManus James V. ; Olander W. Karl, Fluid storage and delivery system utilizing carbon sorbent medium.
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Peterson Janice C. (Allentown PA) DiMartino Stephen P. (Topton PA), Metal hydride adsorption process for hydrogen purification.
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Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX), Method for cleaning exhaust gases.
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Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX) Akita Noboru (Kanagawa JPX) Hiramoto Tadashi (Kanagawa JPX) Sasaki Kohhei (Kanagawa JPX), Method for cleaning exhaust gases.
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Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Akita Noboru (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX) Sasaki Kohhei (Kanagawa JPX) Hiramoto Tadashi (Kanagawa JPX), Method for cleaning gas containing toxic component.
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Sechrist Paul A. ; Robinson Delmar W., Method for reducing chloride emissions from a catalyst regeneration process.
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Jalan Vinod M. (Concord MA) Frost David G. (Maynard MA), Method of removing hydrogen sulfide from gases utilizing a zinc oxide sorbent and regenerating the sorbent.
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Russell Stephen D. (San Diego CA) Sexton Douglas A. (San Diego CA), Photon controlled decomposition of nonhydrolyzable ambients.
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Russell Stephen D. ; Sexton Douglas A., Photon controlled decomposition of nonhydrolyzable ambients.
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Tom Glenn M. ; Miller Cynthia A., Piezoelectric end point sensor for detection of breakthrough of fluid, and fluid processing apparatus comprising same.
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Li Yao-En ; Paganessi Joseph E. ; Vassallo David ; Fleming Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
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Johnson Marvin M. (Bartlesville OK) Nowack Gerhard P. (Bartlesville OK), Process for removal of arsine impurities from gases containing arsine and hydrogen sulfide.
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Carnell Peter John Herbert,GBX ; Willis Edwin Stephen,GBX, Process for removal of sulphur together with other contaminants from fluids.
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Tom Glenn M. ; Fisher H. Eric ; Olander W. Karl, Process for removing and recovering halocarbons from effluent process streams.
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Lush Richard A. (Wilmington DE) Tsao Hsiang-Wei (West Chester PA), Process for removing arsine impurities in process streams.
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Denny Patrick J. (County Durham GB2) Thomas Alan E. (Cleveland GB2) Carnell Peter J. (Cleveland GB2), Purification of a hydrocarbon mixture.
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Leondaridis Paul (Paris IL FRX) Vendel Albert S. (Chicago IL) Akthar Tarranum (Chicago IL), Removal of gaseous hydrides.
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이 특허를 인용한 특허 (14)

Sherer, John Michael, Abatement system targeting a by-pass effluent stream of a semiconductor process tool.
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Sherer,John Michael, Abatement system targeting a by-pass effluent stream of a semiconductor process tool.
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Jha, Praveen; Vininski, Joseph V., Acetylene process gas purification methods and systems.
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Ferron, Shawn; Kelly, John; Vermeulen, Robbert, Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants.
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Hao, Hung Hu; Tseng, Kuo Pang, Filtering device and filtering method thereof and semiconductor fabricating method.
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Vininski,Joseph V.; Torres, Jr.,Robert; Houlding,Virginia H.; Spicer,Harold, Fluid purification system with low temperature purifier.
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Du, Hai; Jaynes, Scot E.; Falta, Steven R.; Stephenson, Neil A., Helium enhanced heat transfer in adsorptive liquid or gas phase argon purification processes.
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Loldj, Youssef A.; Crawford, Shaun W., Interface for operating and monitoring abatement systems.
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Nause, Jeffrey E.; Maciejewski, Joseph Owen; Munne, Vincente; Ganesan, Shanthi, Method of forming a p-type group II-VI semiconductor crystal layer on a substrate.
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Clark, Daniel O.; Raoux, Sebastien; Vermeulen, Robert M.; Crawford, Shaun W., Methods and apparatus for sensing characteristics of the contents of a process abatement reactor.
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Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Loldj, Youssef A.; Vermeulen, Robbert M., Methods and apparatus for smart abatement using an improved fuel circuit.
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Adekore, Bunmi T.; Pierce, Jonathan M.; Davis, Robert F., Methods of forming zinc oxide based II-VI compound semiconductor layers with shallow acceptor conductivities.
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Adekore, Bunmi T.; Pierce, Jonathan M.; Davis, Robert F.; Kenney, George B., Methods of forming zinc oxide based II-VI compound semiconductor layers with shallow acceptor conductivities.
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Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Todd, Leonard B.; Vermeulen, Robbert, Reactor design to reduce particle deposition during process abatement.
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IPC 상위 출원인

주식회사 파나시아 (8)

CENTRAL GLASS CO LTD (7)

MITSUI TOATSU CHEM INC (7)

한국에너지기술연구원 (6)

AGENCY OF IND SCIENCE & TECHNOL (5)

IPC 상세정보(version : 8)

특허정보

IPC Description

A 생활필수품

A62 인명구조; 소방(사다리 E06C)

A62B 인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)

A62B-1/08 .. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC

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A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
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