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Vaporizing apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
  • C23C-016/448
출원번호 US-0594790 (2000-06-16)
우선권정보 JP-11-172855 (1999-06-18)
발명자 / 주소
  • Isao Suzuki JP
출원인 / 주소
  • MKS Japan, Inc. JP
대리인 / 주소
    Wenderoth, Lind & Ponack, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 9

초록 ▼

The vaporizing apparatus comprises a disk portion in which a plurality of sheet disks are provided in a stacked configuration, with a top disk being provided on a top of the sheet disks. Each of the sheet disks has a thin sheetlike form and includes a through-hole at a central portion thereof. A sha

대표청구항 ▼

1. A vaporizing apparatus comprising:a supply opening for supplying a liquid material; a disk provided for covering said supply opening; a discharge opening for discharging a vapor obtained by vaporizing said liquid material; and an actuator for arbitrarily controlling a gap between the disk and the

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Koai Keith K. ; Tseng Tung-Ching ; Chen James J. ; Johnson Mark S. ; Schmitt John ; Li Sean, Apparatus and method for controlling a flow of process material to a deposition chamber.
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  2. Klinedinst Keith A. (Marlborough MA) Lester Joseph E. (Lincoln MA), Apparatus for the controlled delivery of vaporized chemical precursor to an LPCVD reactor.
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  3. Shibauchi Yoshito (Kawagoe JPX) Hatanaka Koichi (Sayama JPX) Tanaka Tasuo (Sayama JPX), Disinfectant vaporizing apparatus.
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  4. Troglin Jerry D. (Rte. 1 ; Box 107 Locust Grove OK 74352), Gasoline vapor complete burning carburetor.
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  5. Sung Gyu Pyo KR; Heon Do Kim KR, Method of forming a copper wiring in a semiconductor device.
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  6. Liao Qiang,HKX ; Zhao Tianshou,HKX ; Cheng Ping,HKX, Rapid vapor generator.
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  7. Ewing James H. (Lexington MA), System for delivering and vaporizing liquid at a continuous and constant volumetric rate and pressure.
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  8. Miyamoto Hideaki (Miyanohigashi-machi JPX) Ishikawa Kohichi (Miyanohigashi-machi JPX) Kawano Takeshi (Miyanohigashi-machi JPX), Vapor controller.
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  9. Ewing James H. (Lexington MA), Vaporizer and liquid delivery system using same.
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이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Bar Gadda,Ronny, Apparatus and method using a remote RF energized plasma for processing semiconductor wafers.
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  2. Mancinho, Derek J., Dimethylmethylphosphonate vapor generator.
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  3. Heden,Craig R.; DePetrillo,Albert R.; McGuire,Robert M., Host and ancillary tool interface methodology for distributed processing.
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  4. Nishikawa, Ichiro; Kawano, Takeshi, Liquid material vaporizer.
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  5. Nishikawa, Ichiro; Kawano, Takeshi, Liquid material vaporizer.
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  6. DePetrillo,Albert R.; Heden,Craig R.; McGuire,Robert M., Modular ICP torch assembly.
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  7. Buchanan, Daryl; Tariq, Faisal; Mei, Hai; Tison, Stuart, System and method for producing and delivering vapor.
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