[특허]Polymeric film having a coating layer of a phosphonic acid group containing polymer

E.I. Du Pont de Nemours and Company; Du Pont Teijin Films U.S. Limited Partnership

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Polymeric film having a coating layer of a phosphonic acid group containing polymer

국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03C-001/76 G03C-001/795 G03F-007/09
출원번호	US-0582481 (2000-06-21)
국제출원번호	PCT/US98/26588 (1998-12-15)
국제공개번호	WO99/32303 (1999-07-01)
발명자 / 주소	Noel Stephen Brabbs GB Andrew Charles Street GB Karen Goodchild GB Cornell Chappel, Jr. Junaid Ahmed Siddiqui Stephen Derek Rogers GB
출원인 / 주소	E.I. Du Pont de Nemours and Company Du Pont Teijin Films U.S. Limited Partnership
인용정보	피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 8

초록

A substantially gelatin free polymeric film includes a coating layer of a polymer having at least one -POXY pendant group, pendant carboxyl group or capable of forming carboxyl groups and further comprises a sulphonated monomer, salt or derivative.

대표청구항 ▼

1. A polymeric film which is substantially gelatin free and comprises a polymeric film substrate having on at least one surface thereof, a coating layer comprising a polymer comprising at least one or more repeating units comprising at least one pendant (-POXY) group, wherein X and Y, which may be the same or different, are OH or OM wherein M is a cation, wherein said coating layer polymer further comprises 10 to 70 mole % of repeating units containing pendant carboxyl groups or groups which are capable of forming carboxyl groups on hydrolysis, and wherein said coating layer polymer further comprises a comonomer which is a sulphonated monomer or a salt or other derivative thereof and wherein said coating layer polymer comprises a copolymer of acrylic acid and vinyl phosphonic acid.

이 특허에 인용된 특허 (8)

Schacht Hans-Thomas,DEX ; Muenzel Norbert,DEX ; Mertesdorf Carl-Lorenz,DEX ; Falcigno Pasquale Alfred,CHX ; Holzwarth Heinz,DEX ; Rohde ; deceased Ottmar,DEX ITX by Li-Chun Tseng-Rohde ; legal repres, Crosslinked polymers.
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Bieser John O. ; Cheung Yunwa Wilson ; Guest Martin James ; Thoen Johan A.,NLX ; Gathers John Joseph, Filled polymer compositions.
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LaFleur Edward E. (Warminster PA) Work William J. (Huntington Valley PA), High gas barrier co-extruded multiplayer films.
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Faust Raimund J. (Wiesbaden DEX) Lutz Silvia (Mainz DEX) Pliefke Engelbert (Wiesbaden DEX), Hydrophilic copolymers and their use in reprography.
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Kato Mamoru (Hirakata JPX) Matsumoto Shoji (Neyagawa JPX) Aizawa Tatsuo (Osaka JPX), Method for preparing original for projection and transfer film for electrostatic photography for use in carrying out sai.
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Hasegawa Akira (Kawashiri JPX), Method of making a lithographic plate comprising microcapsules.
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Burack John Joseph ; Yurcick Peter A., Pressure-sensitive flame retardant adhesive.
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Yeo Siew Puat,SGX ITX 238138, Two-component polymer composition.
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이 특허를 인용한 특허 (4)

Bateman, Stuart Arthur; Cardonna, Francisco; Simons, Ranya; Wu, Dong Yang; Berry, Douglas H.; Kirchner, James F.; Kobak, Seana B.; Seebergh, Jill E., Activation method.
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Bateman, Stuart Arthur; Simons, Ranya; Wu, Dong Yang; McMahon, Patrick James; Bilyk, Alexander; Berry, Douglas H.; Kobak, Seana B.; Kirchner, James F.; Straus, Lori Clarice; Johnson, Mark Paul, Activation method using modifying agent.
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Hoshi, Satoshi; Sunagawa, Hiroshi; Inno, Toshifumi; Makino, Naonori; Kumada, Gaku; Aoshima, Norio, Image forming method, planographic printing plate precursor, and planographic printing method.
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Hanamura,Masaaki; Nishikawa,Michinori; Kumano,Atsushi, Radiation sensitive refractive index changing composition, pattern forming method and optical material.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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