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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0887547 (1997-07-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 18 |
A method and resulting structure for reducing refraction and reflection occurring at the interface between adjacent layers of different materials in a semiconductor device, assembly or laminate during an alignment step in a semiconductor device fabrication process. The method comprises forming a pla
1. A method for improving alignment to underlying topography in a semiconductor device structure during an alignment step comprising:providing a reflective, non-planar surface on a semiconductor device or assembly; forming an insulator layer over the reflective, non-planar surface and forming a seco
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