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특허 상세정보

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Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) H01L-021/00   
미국특허분류(USC) 029/025.01; 134/102.2; 134/902
출원번호 US-0323945 (1999-06-02)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Russell, Linda K.
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 20
초록

Semiconductor wafers and other electronic parts which similarly require ultra-high purity manufacturing environments are treated with ultra-high purity liquid cleaning and etching agents prepared at the site of use from gaseous raw materials which have been purified to a level compatible with semiconductor manufacturing standards, combined when appropriate with ultra-pure water.

대표
청구항

Semiconductor wafers and other electronic parts which similarly require ultra-high purity manufacturing environments are treated with ultra-high purity liquid cleaning and etching agents prepared at the site of use from gaseous raw materials which have been purified to a level compatible with semiconductor manufacturing standards, combined when appropriate with ultra-pure water.

이 특허에 인용된 특허 (20)

  1. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA). Apparatus for treating wafers with process fluids. USP1990044917123.
  2. Ohkuma, Yuji. Apparatus for wet processing. USP1985124557785.
  3. Dobson Jesse C. (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA). Distillation method and apparatus for reprocessing sulfuric acid. USP1990124980032.
  4. Blackwood Robert S. (Lubbock TX) Biggerstaff Rex L. (Lubbock TX) Clements L. Davis (Lincoln NE) Cleavelin C. Rinn (Lubbock TX). Gaseous process and apparatus for removing films from substrates. USP1988064749440.
  5. Syverson Daniel J. (Robbinsdale MN) Novak Richard E. (Plymouth MN). HF gas etching of wafers in an acid processor. USP1990024900395.
  6. Dobson Jesse (Oakland CA) McCormick Marshall (Oakland CA). Hydrofluoric acid reprocessing for semiconductor standards. USP1990064936955.
  7. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua. Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids. USP1989054828660.
  8. Clark R. Scot (Fallbrook CA) Hoffman Joe G. (Oceanside CA) Davison John B. (Mission Viejo CA) Jones Alan W. (San Clemente CA) Jones ; Jr. Allen H. (Carlsbad CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yua. Method and apparatus for the continuous on-site chemical reprocessing of ultrapure liquids used in semiconductor wafer c. USP1989084855023.
  9. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA). Method and system for fluid treatment of semiconductor wafers. USP1990024899767.
  10. Shimizu Shumpei (Moses Lake WA) Yoshizako Mamoru (Machida JPX) Cho Toshitsura (Kawasaki JPX). Method for producing high purity chemicals. USP1990014892625.
  11. Bergman Eric J. (Kalispell MT) Reardon Timothy J. (Kalispell MT) Thompson Raymon F. (Lakeside MT) Owczarz Aleksander (Kalispell MT). Multi-station semiconductor processor with volatilization. USP1995015377708.
  12. Toyomoto Kazuo (Yokohama JPX) Terada Eigo (Kamakura JPX) Kobayashi Hiroshi (Yokohama JPX) Kageura Yoshiaki (Sagamihara JPX). Permeable polymer membrane for dessication of gas. USP1989074844719.
  13. McConnell Christopher F. (Gulph Mills PA) Walter Alan E. (Exton PA). Process and apparatus for treating wafers with process fluids. USP1988104778532.
  14. Kurokawa Hideaki (Hitachi JPX) Yamada Akira (Hitachi JPX) Koseki Yasuo (Hitachiota JPX) Matsuzaki Harumi (Hitachi JPX) Ebara Katsuya (Mito JPX) Takahashi Sankichi (Hitachi JPX) Yoda Hiroaki (Ibaraki . Process for producing ultra-pure water and process for using said ultra-pure water. USP1989114879041.
  15. Ogura Mototsugu (Nara JPX) Kagawa Keiichi (Hirakata JPX) Hirofuji Yuichi (Neyagawa JPX). Process for treating semiconductors. USP1992035092937.
  16. Kagiyama Yasuhiro (Tokuyama JPX) Doi Koichi (Tabuse JPX) Nonaka Toru (Tokuyama JPX) Ishiyama Yuji (Shin-Nanyo JPX) Komatsubara Shigeo (Yokohama JPX). Process for washing semiconductor substrate with organic solvent. USP1988114788043.
  17. Kirksey Kirby (Newark DE). Purification of hydrogen peroxide. USP1991014985228.
  18. Chung Bryan C. (Flemington NJ) Ellis ; Jr. Roland (Burlington Township ; Burlington County NJ) Frazee Kenneth G. (Winter Springs FL). Semiconductor wafer cleaning method and apparatus. USP1991035000795.
  19. Dobson Jesse C. (Oakland CA). Sulfuric acid reprocessor. USP1991075032218.
  20. McCormick Marshall W. (Oakland CA) Dobson Jesse C. (Oakland CA). Sulfuric acid reprocessor with continuous purge of second distillation vessel. USP1991105061348.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 3

  1. Osuda,Hiroshi; Matoba,Toru; Adachi,Daisuke; Fukuizumi,Masataka. Apparatus and method for distilling waste liquids. USP2007067232504.
  2. Kang, Dong-Min; Baek, Kui-Jong; Hahn, Woong; Lee, Chun-Deuk; Lim, Jung-Hun; Kim, Young-Nam; Kim, Hyun-Joon. Composition for removing an insulation material, method of removing an insulation layer and method of recycling a substrate using the same. USP2010127851372.
  3. Takahashi,Osamu; Ogasawara,Kunio. Fabrication method of semiconductor integrated circuit device. USP2009037510933.

IPC 상위 출원인