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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0502531 (2000-02-10) |
우선권정보 | JP-0066125 (1997-03-19); JP-0066126 (1997-03-19); JP-0259833 (1997-09-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 23 |
A hard carbon thin film formed on a substrate has a graded structure in which a ratio of sp2to sp3carbon-carbon bonding in the thin film decreases in its thickness direction from a thin film/substrate interface toward a surface of the thin film. A method of forming the thin film involves varying the
1. A method of forming a carbon thin film through decomposition of a raw material gas, comprising providing a raw material gas, carrying out a first film-forming process through thermal decomposition of the raw material gas, wherein the first film-forming process comprises exposing the raw mater
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