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Process for removing the fluorocompounds or fluorosulphur compounds from a stream of xenon and/or krypton by permeation

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-053/22
  • C01B-023/00
출원번호 US-0655911 (2000-09-05)
우선권정보 FR-0011114 (1999-09-06)
발명자 / 주소
  • Fraysse, Philippe
출원인 / 주소
  • L'Air Liquide - Societe Anonyme A Directoire et Conseil de Surveillance pour l'Etude et l'Exploitation des Procedes Georges Claude
대리인 / 주소
    Young & Thompson
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 8

초록

A process and a plant for removing the gaseous fluorocompounds or fluorosulphur compounds, such as CF4,C2F6,and SF6,present in a stream of xenon and/or krypton, by permeation via one or more membranes, such as polymer membranes. The xenon and/or krypton thus produced may then be further purified or

대표청구항

A process and a plant for removing the gaseous fluorocompounds or fluorosulphur compounds, such as CF4,C2F6,and SF6,present in a stream of xenon and/or krypton, by permeation via one or more membranes, such as polymer membranes. The xenon and/or krypton thus produced may then be further purified or

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Heki ; Hideaki ; Ozaki ; Osamu ; Ohno ; Masayoshi, Gas separator.
  2. Duhayon Jacques (Gif-sur-Yvette FRX) Goumondy Jean-Pierre (Vitry FRX) Leudet Alain (Massy FRX) Rousseau Jean-Claude (Mainvilliers FRX), Method for processing a mixture of air and rare gases, especially xenon and krypton.
  3. Li Yao-En ; Paganessi Joseph E. ; Vassallo David ; Fleming Gregory K., Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases.
  4. Tamhankar Satish S. (Scotch Plains NJ) Sweeney Paul A. (Basking Ridge NJ) Saxena Neeraj (Murray Hill NJ), Process for the recovery of perfluorinated compounds.
  5. Henrich Edmund (Liedolsheim DEX) Hfner Reinhold (Karlsdorf-Neuthard DEX) Weirich Friedhelm (Karlsdorf-Neuthard DEX), Processes for separating the noble fission gases xenon and krypton from waste gases from nuclear plants.
  6. Yang James Hsu-Kuang ; Chernyakov Iosif ; Hsiung Thomas Hsiao-Ling ; Schwarz Alexander, Recovery of perfluorinated compounds from the exhaust of semiconductor fabs using membrane and adsorption in series.
  7. Schlea ; deceased ; Carl Solomon, Separation and purification of xenon.
  8. Prasad Ravi (East Amherst NY), Three-stage membrane gas separation process and system.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Griffiths, John Louis; Brostow, Adam Adrian, Krypton and xenon recovery system.
  2. Nel, Johannes Theodorus; Van Der Walt, Izak Jacobus; Grunenberg, Alfred Teo; Bruinsma, Odolphus Simon Leo; Le Roux, Marco; Krieg, Henning Manfred; Marx, Sanette, Recovery of a gaseous component from a mixture of gaseous compounds.
  3. Kimoto, Masahiro; Koura, Terumasa; Fukuda, Yukio; Narazaki, Masaki; Hashimoto, Taiji; Sakai, Toru; Yokogi, Kazuo, Xenon retrieval system and retrieval device.
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