[특허]Photoresist stripper compositions

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Photoresist stripper compositions 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03C-007/42
출원번호	US-0116030 (2002-04-05)
우선권정보	KR-0079490 (2001-12-14); KR-0013631 (2002-03-13)
발명자 / 주소	Ahn, Seung-Hyun Chon, Sang-Mun Chung, Hoe-Sik Jeon, Mi-Sook Bae, Eun-Mi Choi, Baik-Soon Jang, Ok-Seok
출원인 / 주소	Samsung Electronics Co., Ltd.
대리인 / 주소	Volentine Francos, PLLC
인용정보	피인용 횟수 : 6 인용 특허 : 7

초록 ▼

A photoresist stripper composition is made up of a mixture of an acetic acid ester, γ-butyrolactone (GBL), and a non-acetate ester or a poly alkyl alcohol derivative. The acetic acid ester may be at least one of n-butyl acetate, amyl acetate, ethyl aceto-acetate, and isopropyl acetate. The non-acetate ester may be at least one of ethyl lactate (EL), ethyl-3-ethoxy propionate (EEP) and methyl-3-methoxy (MMP). The poly alkyl alcohol derivative may be at least one of propylene glycol monomethyl ester (PGME) and propylene glycol monomethyl ester acetate (PGMEA).

대표청구항 ▼

이 특허에 인용된 특허 (7)

Gaul Kimberley A. (St. Paul MN), Composition containing lactone and ester for removing coatings.
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Macken Declan,IEX ; Duddy Kevin J.,IEX, Magnetoresistive shield incorporating seedlayer for anisotropy enhancement.
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Sang-sik Moon KR; Mi-sook Jeon KR; Pil-kwon Jun KR; June-ing Kil KR; Je-eung Park KR; Sang-mun Chun KR, Photoresist stripper composition and method for stripping photoresist using the same.
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Koshiyama Jun,JPX ; Shimai Futoshi,JPX ; Fukushima Hidehito,JPX, Remover solvent for partial removal of photoresist layer.
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Jeon Mi-sook,KRX ; Lee Chun-deuk,KRX ; Lee Bo-yong,KRX, Rework method utilizing thinner for wafers in manufacturing of semiconductor devices.
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Kim Byung-Uk,KRX ; Baik Ji-Hum,KRX ; Oh Chang-Il,KRX ; Lee Sang-Dai,KRX ; Kim Won-Lae,KRX ; Yoo Chong-Soon,KRX, Thinner composition for removing spin-on-glass and photoresist.
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Chon Sang-moon,KRX ; Lee Boo-sup,KRX ; Kim Sung-il,KRX ; Gil Jun-ing,KRX ; Jun Pil-kwon,KRX ; Jun Me-suk,KRX, Thinner composition for washing a photoresist in a process for preparing semiconductors.
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이 특허를 인용한 특허 (6)

Lee, Ahn-Ho; Choi, Baik-Soon; Ahn, Seung-Hyun; Kim, Sang-Tae; Kim, Yong-Il; Sung, Shi-Jin; Lee, Kyong-Ho, Methods of forming a photosensitive film.
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Lin, Yu-Hsun, Solvent for reducing resist consumption and method using solvent for reducing resist consumption.
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Rutter, Jr., Edward W.; Tran, Cuong Manh; Orr, Edward C., Stripping method.
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Kim, Jeong Hwan; Lee, Kyong Ho; Song, In Kak, Thinner composition for improving coating and removing performance of resist.
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Lee, Dong Ki; Ju, Jin Ho; Lee, Hi Kuk; Sin, Seon Su; Lee, Kwang Soo; Mun, Jae Woong, Thinner composition, method of preparing the same and method of recovering the same.
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Lee, Ahn-Ho; Ahn, Seung-Hyun; Yang, Jin-Seok; Kim, Sang-Tae; Sung, Shi-Jin; Lee, Kyong-Ho, Thinner compositions.
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[특허] 폐 N-메틸-2-피롤리돈 혼합액의 정제방법

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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