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[미국특허] Substrate cleaning apparatus and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/00
출원번호 US-0800156 (2001-03-06)
우선권정보 TW-89120138 A (2000-09-28)
발명자 / 주소
  • Shih, Yu Lei
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Janah & Associates
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 14

초록 ▼

A substrate cleaning apparatus includes a chamber having a substrate support capable of supporting and rotating a substrate in the chamber. A cleaning solution injector is provided to inject a cleaning solution onto the substrate in the chamber. A portion of the cleaning solution is thrown off the r

대표청구항 ▼

A substrate cleaning apparatus includes a chamber having a substrate support capable of supporting and rotating a substrate in the chamber. A cleaning solution injector is provided to inject a cleaning solution onto the substrate in the chamber. A portion of the cleaning solution is thrown off the r

이 특허에 인용된 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Bergman Eric J. ; Hess Mignon P., Apparatus and method for processing the surface of a workpiece with ozone.
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  2. Lee Je-cheol,KRX ; Kim Byung-jin,KRX, Apparatus for cleaning semiconductor wafers.
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  3. Kwag Gyu-hwan,KRX ; Hwang Kyung-seuk,KRX, Apparatus for wafer treatment for the manufacture of semiconductor devices.
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  4. Peng Ming-Tang,TWX, Gas vent system for a vacuum chamber.
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  5. Liu Benjamin Y. H. (North Oaks MN), Method and apparatus for depositing particles on surfaces.
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  6. Wong Man, Method for vapor phase wafer cleaning.
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  7. Kunze-Concewitz Horst,DEX, Method of cleaning surfaces with water and steam.
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  8. Hurwitt Steven (Park Ridge NJ), Method of preventing condensation of air borne moisture onto objects in a vessel during pumping thereof.
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  9. Han Suk Bin,KRX ; Huh Yun Jun,KRX, Semiconductor wafer cleaning apparatus.
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  10. Han Suk Bin,KRX ; Huh Yun Jun,KRX, Semiconductor wafer cleaning apparatus.
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  11. Olesen Michael B. ; Bran Mario E., Semiconductor wafer cleaning method.
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  12. Iwai Hiroyuki,JPX ; Tanifuji Tamotsu,JPX ; Asano Takanobu,JPX ; Okura Ryoichi,JPX, Treatment apparatus.
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  13. Kitagawa Kenichi,JPX ; Shimada Kiyoshi,JPX ; Ando Ei'ichi,JPX ; Kataoka Tatsuo,JPX ; Yoneda Takashi,JPX ; Tatehaba Yoshihito,JPX, Wafer cleaning apparatus and structure for holding and transferring wafer used in wafer cleaning apparatus.
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  14. Hwang Kyung-Seuk,KRX ; Lee Jun-Kyu,KRX, Wafer cleaning apparatus with rotating cleaning solution injection nozzles.
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이 특허를 인용한 특허 (2) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Kosub, Johann, Apparatuses and methods for gas mixed liquid polishing, etching, and cleaning.
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  2. Orii,Takehiko; Amai,Masaru, Substrate processing apparatus and substrate processing method.
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