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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0290158 (2002-11-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 148 인용 특허 : 3 |
A semiconductor device may include a substrate and an insulating layer formed on the subtrate. A fin may be formed on the insulating layer and may include a number of side surfaces and a top surface. A first gate may be formed on the insulating layer proximate to one of the number of side surfaces o
1. A semiconductor device, comprising: a substrate; an insulating layer formed on the substrate; a fin formed on the insulating layer and including a plurality of side surfaces and a top surface; a first gate formed on the insulating layer proximate to one of plurality of side surfaces of the
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