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Precision liquid mixing apparatus and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01F-015/02
출원번호 US-0512752 (2000-02-25)
발명자 / 주소
  • Pozniak, Peter Martin
  • Provost, Charles Andre
  • Singh, Rakesh Kumar
  • Vo, Sau Van
  • Roberts, Benjamin Rush
출원인 / 주소
  • The BOC Group, Inc.
대리인 / 주소
    Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner LLP
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 17

초록

A system, apparatus and method is disclosed for providing a consistent liquid mixture according to a predetermined recipe for use at a point of use. The apparatus includes a plurality of liquid component reservoirs in which a constant gas pressure is maintained. A plurality of valves are provided, w

대표청구항

A system, apparatus and method is disclosed for providing a consistent liquid mixture according to a predetermined recipe for use at a point of use. The apparatus includes a plurality of liquid component reservoirs in which a constant gas pressure is maintained. A plurality of valves are provided, w

이 특허에 인용된 특허 (17)

  1. Han Leon M., Apparatus and method for precise mixing, delivery and transfer of chemicals.
  2. Ohmi Tadahiro (1-17-301 ; Komegabukuro 2-chome Aoba-ku ; Sendai-shi ; Miyagi-ken 980 JPX) Shibata Tadashi (5-2 ; Nihondaira Taihaku-ku ; Sendai-shi ; Miyagi-ken 980 JPX), Apparatus for cleaning a wafer surface.
  3. Soberanis David ; Forshey Randy, Chemical delivery systems and methods of delivery.
  4. Danielson Donald D. (Aloha OR) Feller Allen D. (Portland OR) Cadien Kenneth C. (Portland OR), Chemical mechanical polishing slurry delivery and mixing system.
  5. Shimomura Mariko,JPX ; Miyashita Naoto,JPX ; Ohashi Hiroyuki,JPX, Chemical-mechanical polishing (CMP) method for controlling polishing rate using ionized water, and CMP apparatus.
  6. DiRegolo Joseph A. (San Leandro CA), Liquid chemical dispensing system.
  7. Pozniak Peter M. ; Roberts Benjamin R., Liquid dispensing apparatus and method.
  8. Switall Thomas G. (Wheeling IL), Liquid mixing system and method.
  9. Xu Mindi ; Vigor Xavier, Methods and systems for distributing liquid chemicals.
  10. Hellenberg Leen (JA Katwijk NLX), Paint dispensing apparatus.
  11. Murphy James J. (Austin TX) Farkas Janos (Austin TX) Markert Lucia C. (Austin TX) Jairath Rahul (Austin TX), Point of use slurry dispensing system.
  12. Walsh Robert J. (Ballwin MO), Process for chemical-mechanical polishing of III-V semiconductor materials.
  13. Bochinski Julius H. (26 Redding Ridge Drive Gaithersburg MD 20760), Programmed fluid sampling and analysis apparatus.
  14. Hood Roderick Kermit (Williston VT) Raacke Karl Heinz (Essex Junction VT), Reduced meniscus-contained method of handling fluids in the manufacture of semiconductor wafers.
  15. Cardenas Jon ; Plevich Alexander P. ; Kinsey Timothy C., Slurry distribution system that continuously circulates slurry through a distribution loop.
  16. Pozniak Peter M. ; Roberts Benjamin R. ; Trang Duy Khanh, Slurry mixing apparatus and method.
  17. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot ; Jones ; Jr. Allen H., System and method for on-site mixing of ultra-high-purity chemicals for semiconductor processing.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Nicholes, Mary Kristin; Carlson, Stephen John; Litchy, Mark R., Apparatus and method for sampling a chemical-mechanical polishing slurry.
  2. Ziesel, Lawrence B., Dispensing nozzle assembly.
  3. Ziesel, Lawrence B., Dispensing nozzle assembly.
  4. Ziesel, Lawrence B., Dispensing nozzle assembly.
  5. Duck,Michael R; Illsley,Garth C.; Jollymore,Charles; MacLean,Ian; Stoneman,Kevin; Tran,Dzung; Wilson,Avery; Kanigan,Kim, Fluid dispensing apparatus.
  6. Conway, Timothy Edward; Gershtein, Vladimir Yliy; Hopkins, Jeffrey Alan; Lindenmuth, Brian M.; Booth, Thomas M., Onsite ultra high purity chemicals or gas purification.
  7. Byers, Gary Allen; Derecskei, Bela; Bayer, Benjamin Patrick, Slurry supply and/or chemical blend supply apparatuses, processes, methods of use and methods of manufacture.
  8. Hughes, John E. Q.; Ware, Donald D.; Lurcott, Steven M.; Wrschka, Peter, Systems and methods for delivery of fluid-containing process material combinations.
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