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Colored photosensitive composition and method for producing a color filter 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02B-005/20
  • G03F-007/004
출원번호 US-0993617 (2001-11-27)
우선권정보 JP-0362826 (2000-11-29)
발명자 / 주소
  • Takebe, Kazuo
출원인 / 주소
  • Sumitomo Chemical Company, Limited
대리인 / 주소
    Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 2

초록

A colored photosensitive composition used for producing a color filter which comprises a colorant (A), a binder polymer (B), a photo-polymerizable compound (C), a photo-polymerization initiator (D) and a chain transfer agent (E) is provided, and using the colored photosensitive composition, color pi

대표청구항

1. A colored photosensitive composition comprising a colorant (A), a binder polymer (B), a photo-polymerizable compound (C), a photo-polymerization initiator (D) and a chain transfer agent (E) that is selected from the group consisting of 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene, n-dodecylmercaptan, t-dodecy

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Udagawa Tadahiko,JPX ; Masuko Hideaki,JPX ; Nemoto Hiroaki,JPX ; Bessho Nobuo,JPX, Radiation sensitive composition containing a fluorescent substance dispersed therein.
  2. Iwamoto Satoshi,JPX ; Wanibe Yasumi,JPX ; Nemoto Hiroaki,JPX ; Bessho Nobuo,JPX, Radiation sensitive composition for color filters.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Lee, Seung-Jun; Jo, Gug Rae; Chang, Jae Hyuk; Kim, Hyun-Seok; Lee, Sung Hee; Kim, Sang-Tae; Choi, Yong Seok; Moon, Sung Bae; Song, In Kak; Lee, Seung-Yong, Ink composition, and method of forming pattern, color filter and method of preparing color filter using the same.
  2. Gotoh, Hidenori, Ink, color filter, and method for manufacturing the same, and display device.
  3. Setta, Yuji; Yamamoto, Hajime, Method for manufacturing semiconductor device.
  4. Nozaki, Koji; Kozawa, Miwa, Resist composition, method for forming resist pattern, and semiconductor device and method for manufacturing the same.
  5. Nozaki, Koji; Kozawa, Miwa; Namiki, Takahisa, Resist pattern thickening material and process for forming resist pattern, and semiconductor device and process for manufacturing the same.
  6. Nozaki, Koji; Kozawa, Miwa; Namiki, Takahisa, Resist pattern thickening material and process for forming resist pattern, and semiconductor device and process for manufacturing the same.
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