$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[미국특허] Polishing pads and methods relating thereto 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24B-001/00
출원번호 US-0848894 (2001-05-04)
발명자 / 주소
  • Roberts, John V. H.
  • James, David B.
  • Cook, Lee Melbourne
  • Bakule, Ronald D.
출원인 / 주소
  • Rodel Holdings, Inc.
대리인 / 주소
    Benson, Kenneth A.
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 14

초록

A polishing pad with a polishing layer having a macro-texture and a micro-texture wherein the polishing layer is formed by solidifying a flowable material, the polishing layer further comprising hard domains and soft domains, each domain having an average size less than 100 microns.

대표청구항 ▼

A polishing pad with a polishing layer having a macro-texture and a micro-texture wherein the polishing layer is formed by solidifying a flowable material, the polishing layer further comprising hard domains and soft domains, each domain having an average size less than 100 microns. n under said toy

이 특허에 인용된 특허 (14) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Phaal Cornelius (Glade Cottage ; St Anne\s Glade Bagshot ; Surrey ; GU195EF GB2), Abrasive product.
    상세보기
  2. Quintana Jesus B. (Barcelona ESX), Abrasive product comprising a plurality of discrete composite abrasive pellets in a resilient resin matrix.
    상세보기
  3. Birch D\Arcie W. (Oakdale MN), Aqueous, coatable, thermally condensable composition.
    상세보기
  4. Cruz Jose Luis ; Messier Steven James ; Sturtevant Douglas Keith ; Tiersch Matthew Thomas, Composite polish pad for CMP.
    상세보기
  5. Lofaro Michael F. (Milton NY), Composite polishing pad.
    상세보기
  6. Leong Helen C. (Atherton CA) Katz Martin (Menlo Park CA) Cheng Chung-Heng (San Jose CA), Fabric impregnated with functional substances for controlled release.
    상세보기
  7. Mattingly Wayne A. (Rio Rancho NM) Morimoto Seiichi (Beaverton OR) Preston Spencer E. (Portland OR), Method for conditioning the surface of a polishing pad.
    상세보기
  8. Kim Sung C. ; Lai Lei Ping ; Bajaj Rajeev ; Manzonie Adam, Method of chemical mechanical polishing (CMP) using an underpad with different compression regions and polishing pad the.
    상세보기
  9. Budinger William D. (Kennett Square PA) Jensen Elmer W. (Wilmington DE), Pad material for grinding, lapping and polishing.
    상세보기
  10. Tuttle Mark E. (Boise ID), Polishing pad.
    상세보기
  11. Karlsrud Chris (Chandler AZ), Polishing pad conditioning.
    상세보기
  12. Thomas Michael E. (Milpitas CA), Polishing pad for planarization.
    상세보기
  13. Cook Lee M. (Steelville PA) Roberts John V. H. (Newark DE) Jenkins Charles W. (Newark DE) Pillai Raj R. (Newark DE), Polishing pads and methods for their use.
    상세보기
  14. Allen Franklin L. (Sherman TX) Smith William L. (Howe TX) Debner Thomas G. (Howe TX) Olmstead Dennis L. (Sherman TX), Semiconductor polishing pad.
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (18) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Huang, Huang-Nan; Lee, Cheng-Fang, Arc blade-shaped processing surface structure of pad conditioner and manufacturing mold structure thereof.
    상세보기
  2. Kulp,Mary Jo, Chemical mechanical polishing pad.
    상세보기
  3. Roy, Pradip K.; Deopura, Manish; Misra, Sudhanshu, Customized polishing pads for CMP and methods of fabrication and use thereof.
    상세보기
  4. Kerprich, Robert; Holland, Karey; Scott, Diane; Misra, Sudhanshu, Grooved CMP pad.
    상세보기
  5. Shih, Wen Chang, Inlaid polishing pad.
    상세보기
  6. Shih,Wen Chang, Method of producing inlaid polishing pad.
    상세보기
  7. Carter, Phillip W.; Johns, Timothy, Polishing composition and method for high silicon nitride to silicon oxide removal rate ratios.
    상세보기
  8. Carter,Phillip W.; Johns,Timothy P., Polishing composition and method for high silicon nitride to silicon oxide removal rate ratios.
    상세보기
  9. Dysard, Jeffrey M.; Johns, Timothy P., Polishing composition and method for high silicon nitride to silicon oxide removal rate ratios.
    상세보기
  10. Dysard, Jeffrey M.; Johns, Timothy P., Polishing composition and method for high silicon nitride to silicon oxide removal rate ratios.
    상세보기
  11. Naik, Sujit, Polishing liquids for activating and/or conditioning fixed abrasive polishing pads, and associated systems and methods.
    상세보기
  12. Naik,Sujit, Polishing liquids for activating and/or conditioning fixed abrasive polishing pads, and associated systems and methods.
    상세보기
  13. Hishiki, Seigo, Polishing pad.
    상세보기
  14. Preston,Spencer; Hutchins,Doug; Hymes,Steve, Polishing pad and method of making same.
    상세보기
  15. Bajaj, Rajeev, Polishing pad composition.
    상세보기
  16. Oliver, Michael R., Polishing pads for chemical mechanical planarization and/or other polishing methods.
    상세보기
  17. Obeng, Yaw S.; Yokley, Edward M., Selective chemical-mechanical polishing properties of a cross-linked polymer and specific applications therefor.
    상세보기
  18. Carter, Malika D.; Hsiao, Yun-Lin; Karis, Thomas E.; Marchon, Bruno; Nayak, Ullal V.; Ramm, Christopher; Richard, Wong K., Systems and methods for polishing a magnetic disk.
    상세보기

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 특허

해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로