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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0058744 (2002-01-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 34 인용 특허 : 1 |
A method and system for fabricating micron and sub-micron-sized features within a polymer layer of a nascent semiconductor device or other micro-device or nano-device. Small features are directly imprinted with an optical-mechanical stamp having corresponding intrusions. Large features are created b
1. A method for fabricating features in a polymer layer of a device designed to include micron and sub-micron elements and components, the method comprising: providing an optical-mechanical pattern-imprinting mask; mechanically creating narrow, submicorn features within the polymer layer by tran
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