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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0773521 (2001-02-02) |
우선권정보 | JP-0027837 (2000-02-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 2 |
Silicon oxide containing active silicon represented by the general formula: SiOx wherein x is from 0.8 to 1.9, when analyzed by solid state NMR (29Si DD/MAS) with a sufficient relaxation time set, exhibits a spectrum having two separate peaks, a broad peak (A1) centered at -70 ppm and a broad peak (
1. Silicon oxide containing active silicon represented by the general formula: SiOx wherein x is from 0.8 to 1.9 which on analysis by solid state NMR (29Si DD/MAS) with a sufficient relaxation time set, exhibits a spectrum having two separate peaks, a broad peak (A1) centered at -70 ppm and a broad
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