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Process for preparing resists

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03C-001/73
출원번호 US-0824198 (2001-04-02)
우선권정보 JP-0275185 (1997-09-22)
발명자 / 주소
  • Okazaki, Hiroshi
  • Pawlowski, Georg
  • Funato, Satoru
  • Kinoshita, Yoshiaki
  • Yamaguchi, Yuko
출원인 / 주소
  • Clariant Finance (BVI) Limited
대리인 / 주소
    Sayko, Andrew F.Kass, Alan P.
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 10

초록

A resist composition is prepared by reacting an alkali-soluble polymer having a phenolic hydroxyl or carboxyl groups with a vinyl ether compound in an aprotic solvent, such as propylene glycol monomethyl ether acetate, in the presence of an acid catalyst, suspending the reaction by the addition of a

대표청구항

1. A method for forming an image on a substrate, said method comprising: a) providing a photoresist composition that is made comprising the steps of: (I) providing a solution of a resist material made by a process comprising reacting (i) at least one alkali-soluble polymer having a phenolic hyd

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Schacht Hans-Thomas,DEX ; Muenzel Norbert,DEX ; Mertesdorf Carl-Lorenz,DEX ; Falcigno Pasquale Alfred,CHX ; Holzwarth Heinz,DEX ; Rohde ; deceased Ottmar,DEX ITX by Li-Chun Tseng-Rohde ; legal repres, Crosslinked polymers.
  2. Huang Wu-Song ; Linde Harold George ; Whiting Charles Arthur, High contrast photoresists comprising acid sensitive crosslinked polymeric resins.
  3. Honda Kenji (Barrington RI), Method for removing metal impurities from resist components.
  4. Sinta Roger F. ; Kumar Uday ; Orsula George W. ; Fahey James I. T. ; Brunsvold William R. ; Huang Wu-Song ; Katnani Ahmad D. ; Nunes Ronald W. ; Khojasteh Mahmoud M., Methods for preparing photoresist compositions.
  5. Mertesdorf Carl-Lorenz,DEX ; Schacht Hans-Thomas,DEX ; Muenzel Norbert,DEX ; Falcigno Pasquale Alfred,CHX, Photoresist compositions.
  6. Schwalm Reinhold (Wachenheim DEX) Binder Horst (Lampertheim DEX), Positive and negative working radiation sensitive mixtures and production of relief patterns.
  7. Okazaki Hiroshi,JPX ; Pawlowski Georg,JPX ; Funato Satoru,JPX ; Kinoshita Yoshiaki,JPX ; Yamaguchi Yuko,JPX, Process for preparing resists.
  8. Mertesdorf Carl-Lorenz (Bad Krozingen DEX) Nathal Bertold (Rodersdorf CHX) Kirner Hans-Jorg (Pratteln CHX), Process for the preparation of partially protected phenolic resins.
  9. Szmanda Charles R. (Westborough MA) Carey Richard J. (Sherborn MA), Purification process.
  10. Nakamura Shigeo,JPX ; Oshimura Masahiko,JPX ; Mori Kenichi,JPX ; Yokota Tadahiko,JPX ; Koto Hiroyasu,JPX, Resin composition.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Sugihara, Masako; Nishimura, Takashi, Resin, resist composition and method for producing resist pattern.
  2. Sugihara, Masako; Nakanishi, Junji, Resist composition and method for producing resist pattern.
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