검색연산자 | 기능 | 검색시 예 |
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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | H01L-021/4763 |
미국특허분류(USC) | 438/622; 438/613; 438/627; 438/638; 438/648; 438/687 |
출원번호 | US-0051262 (2002-01-18) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 68 인용 특허 : 9 |
An interconnect overlies a semiconductor device substrate (10). In one embodiment, a conductive barrier layer overlies a portion of the interconnect, a passivation layer (92) overlies the conductive barrier layer and the passivation layer (92) has an opening that exposes portions of the conductive barrier layer (82). In an alternate embodiment a passivation layer (22) overlies the interconnect, the passivation layer (22) has an opening (24) that exposes the interconnect and a conductive barrier layer (32) overlies the interconnect within the opening (24)...
1. A method of forming a semiconductor device comprising: forming a first interconnect overlying a semiconductor device substrate; forming a second interconnect overlying portions of the first interconnect, wherein the second interconnect is further characterized as a copper interconnect having a bond pad portion; forming a conductive barrier layer over the bond pad portion; forming an oxidation-resistant layer over the conductive barrier layer; forming a passivation layer overlying the oxidation-resistant layer; and forming a partial opening in ...