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DFR laminating and film removing system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B44C-001/165
  • B32B-031/20
  • B32B-007/06
  • B41M-003/12
  • B05D-005/12
출원번호 US-0164987 (2002-06-07)
발명자 / 주소
  • Chen, Li-Chen
  • Hsu, Chia-Tsun
  • Lin, Chia-Fu
  • Lee, Kuo-Ching
  • Chen, Yen-Ming
  • Ching, Kai-Ming
  • Lee, Hsin-Hui
  • Su, Chao-Yuan
출원인 / 주소
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Tung & Associates
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 5

초록

A DFR laminating and PET removing system which is capable of both laminating a dry film resist (DFR) layer on a semiconductor wafer and removing a DFR support film such as polyethylene terepthalate (PET) from the DFR layer on the wafer at a single location. The DFR laminating and PET removing system

대표청구항

A DFR laminating and PET removing system which is capable of both laminating a dry film resist (DFR) layer on a semiconductor wafer and removing a DFR support film such as polyethylene terepthalate (PET) from the DFR layer on the wafer at a single location. The DFR laminating and PET removing system

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Ametani Minoru (Osaka JPX), Apparatus for applying and removing protective adhesive tape to/from semiconductor wafer surfaces.
  2. Naoto Okada JP; Toshikatu Shimazaki JP; Takeshi Yoshida JP; Yoshitaka Minami JP; Hiroshi Yamazaki JP, Device and method for lamination.
  3. Freisitzer Norbert (Hyde Park NY) Meinert Rolf G. (Wappingers Falls NY), Dry film resist transport and lamination system for semiconductor wafers.
  4. Brady William A. (Lake Worth FL) Chan See A. (Coral Springs FL) Freisitzer Norbert (Hyde Park NY) Meinert Rolf G. (Wappingers Falls NY) Nahata Prakash (Coral Springs FL) Perlini Julius J. (Boynton Be, Photo resist film application mechanism.
  5. Ametani Minoru (Osaka JPX) Funakoshi Keigo (Osaka JPX) Kira Akihiko (Osaka JPX) Matsushita Takao (Osaka JPX) Shirakura Keizo (Osaka JPX), Process for peeling protective film off a wafer.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Parkhe, Vijay D, Cleaning of a substrate support.
  2. Parkhe, Vijay D., Cleaning of a substrate support.
  3. Ametani,Minoru, Film peeling method and film peeling device.
  4. Miyamoto,Akihiro, Method for production and apparatus for production of adhesive wafer.
  5. Hayasaka,Takuya, Peeling apparatus and peeling method.
  6. Kurosawa,Tetsuya; Otsuka,Masahisa, Peeling device and peeling method.
  7. Tsujimoto, Masaki; Yoshioka, Takahisa; Kobayashi, Kenji, Sticking apparatus and sticking method.
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