[특허]Positive resist composition

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[미국특허] Positive resist composition 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-070/39
출원번호	US-0285502 (2002-11-01)
우선권정보	JP-0336413 (2001-11-01)
발명자 / 주소	Nishiyama, Fumiyuki Fujimori, Toru
출원인 / 주소	Fuji Photo Film Co., Ltd.
대리인 / 주소	Sughrue Mion, PLLC
인용정보	피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 5

초록 ▼

A positive resist composition comprising a resin (A), which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, containing a structural unit including a group represented by formula (X) defined in the specification and/or a resin (B), which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, containing a structural unit including a group represented by formula (Y) defined in the specification, and a resin (C), which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, containing a structural unit including a group represented by formula (Q) defined in the specification; and a compound that generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation.

대표청구항 ▼

이 특허에 인용된 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

Harada, Yuji; Hatakeyama, Jun; Watanabe, Jun; Kawai, Yoshio; Sasago, Masaru; Endo, Masayuki; Kishimura, Shinji; Ootani, Michitaka; Miyazawa, Satoru; Tsutsumi, Kentaro; Maeda, Kazuhiko, Polymers, resist compositions and patterning process.
상세보기
Sato Kenichiro,JPX ; Aoai Toshiaki,JPX, Positive photoresist composition for far ultraviolet ray exposure.
상세보기
Ito Hiroshi (San Jose CA) Willson Carlton G. (San Jose CA) Frechet Jean M. J. (Ottawa CAX), Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile grou.
상세보기
Okazaki Hiroshi,JPX ; Pawlowski Georg,JPX ; Funato Satoru,JPX ; Kinoshita Yoshiaki,JPX ; Yamaguchi Yuko,JPX, Process for preparing resists.
상세보기
Jun Numata JP; Shirou Kusumoto JP; Eiichi Kobayashi JP, Radiation-sensitive resin composition.
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (1) 인용/피인용 타임라인 분석

Wang, Chien-Wei; Chang, Ching-Yu; Gau, Tsai-Sheng; Lin, Burn Jeng, Patterning process and photoresist with a photodegradable base.
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활용도 분석정보

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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