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Multilayer extreme ultraviolet mirrors with enhanced reflectivity 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F21V-009/06
출원번호 US-0205206 (2002-07-26)
우선권정보 EP-0305283 (1999-07-02); EP-0307932 (1999-10-07)
발명자 / 주소
  • Singh, Mandeep
출원인 / 주소
  • ASML Netherlands B.V.
대리인 / 주소
    Pillsbury Winthrop LLP
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 10

초록

The reflectivity of multilayered EUV mirrors tuned for 11-16 nm, for which the two-component Mo/Be and Mo/Si multilayered systems are commonly used, is enhanced by incorporating additional elements and their compounds mainly from period 5 of the periodic table. In addition, the reflectivity performa

대표청구항

The reflectivity of multilayered EUV mirrors tuned for 11-16 nm, for which the two-component Mo/Be and Mo/Si multilayered systems are commonly used, is enhanced by incorporating additional elements and their compounds mainly from period 5 of the periodic table. In addition, the reflectivity performa

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Bajt Sasa ; Barbee ; Jr. Troy W., High reflectance and low stress Mo2C/Be multilayers.
  2. Ruffner Judith Alison, Method for high-precision multi-layered thin film deposition for deep and extreme ultraviolet mirrors.
  3. Shirai Takeshi,JPX ; Aboshi Junji,JPX, Mirror for high-intensity ultraviolet light beam.
  4. Murakami Katsuhiko,JPX, Multi-layer X-ray-reflecting mirrors with reduced internal stress.
  5. Fukuda Yasuaki (Machida JPX) Watanabe Yutaka (Atsugi JPX) Ogura Shigetaro (Tama JPX) Iizuka Takashi (Yokohama JPX), Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray.
  6. Braatz Christoph (Hainburg DEX) Szczyrbowski Joachim (Goldbach DEX) Zmelty Anton (Hosbach DEX), Optical filter having multi-layer coating.
  7. Thomas A. Russell ; Michael L. Fulton, Thermal control films suitable for use in glazing.
  8. Hall Randolph L. (Newbury Park CA) Southwell William H. (Thousand Oaks CA), Thickness error compensation for digital gradient-index optical coatings.
  9. Arends Charles B. (Midland MI) Schrenk Walter J. (Midland MI) Lewis Ray A. (Midland MI) Ramanathan Ravi (Midland MI) Wheatley John (Midland MI), Two component infrared reflecting film.
  10. Lu Samuel (Agoura CA) Sun Ming-Jau (Woodland Hills CA) Stewart Alan F. (Thousand Oaks CA) Louderback Anthony W. (Eugene OR), Ultraviolet resistive coated mirror and method of fabrication.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Tanabe, Masayuki; Watanabe, Yutaka; Terashima, Shigeru; Kanehira, Mika, Exposure apparatus, control method for the same, and device manufacturing method.
  2. Lin, Yi-Feng; Ko, Chia-Chieh; Tung, Kuo-Lun; Chen, Chien-Hua; Chang, Kai-Shiun, Method for making a porous silica aerogel composite membrane.
  3. Enkisch, Hartmut; Muellender, Stephan; Endres, Martin, Method for producing a multilayer coating, optical element and optical arrangement.
  4. Lin, Yi-Feng; Ko, Chia-Chieh; Tung, Kuo-Lun; Chen, Chien-Hua; Chang, Kai-Shiun, Porous silica aerogel composite membrane and method for making the same and carbon dioxide sorption device.
  5. Sekine,Yoshiyuki, Projection optical system, exposure apparatus, device manufacturing method, and device manufactured by using the same.
  6. Kanazawa,Hidehiro; Ando,Kenji; Imai,Kyoko, X-ray multi-layer mirror and x-ray exposure apparatus.
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