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Apparatus and method for cleaning a bell jar in a barrel epitaxial reactor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G06F-019/00
출원번호 US-0655602 (2000-09-05)
발명자 / 주소
  • Dunn, Frank J.
출원인 / 주소
  • CXE Equipment Services, LLC
대리인 / 주소
    Deleault, Esq., Robert R.
인용정보 피인용 횟수 : 7  인용 특허 : 26

초록

An epitaxial cleaning apparatus has a blower controller module and controller module code. The blower controller module is connected between a blower of an epitaxial deposition device having a reaction chamber, a blower and a plurality of plenum chambers for delivering cooling air from the blower to

대표청구항

An epitaxial cleaning apparatus has a blower controller module and controller module code. The blower controller module is connected between a blower of an epitaxial deposition device having a reaction chamber, a blower and a plurality of plenum chambers for delivering cooling air from the blower to

이 특허에 인용된 특허 (26)

  1. Sherman Arthur (Palo Alto CA), Apparatus and method for high rate deposition and etching.
  2. Dob Allan M. (Clifton NJ) Wurst John W. (Far Hills NJ), Blower speed control.
  3. McNeilly Michael A. (Saratoga CA) Benzing Walter C. (Saratoga CA), Chemical vapor deposition coating process employing radiant heat and a susceptor.
  4. Mahajan Roop L. (Lawrenceville NJ) Ristorcelli ; Jr. Joseph R. (Belle Mead NJ), Chemical vapor deposition reactor for silicon epitaxial processes.
  5. Fujiyoshi Koji,JPX ; Kadota Shigeru,JPX ; Kawaguchi Kiyoshi,JPX ; Suzuki Yukinori,JPX ; Maehara Shigeru,JPX ; Kishita Koji,JPX, Cooling device boiling and condensing refrigerant.
  6. Ohta Yutaka (Gunma JPX) Hoshina Yusho (Gunma JPX) Arai Takeshi (Gunma JPX), Cylindrical apparatus for growth of epitaxial layers.
  7. Nordby Craig J., Direct replacement variable speed blower motor.
  8. Miyazaki Yoshihiko (Numazu JPX) Goto Taizan (Numazu JPX) Komiyama Yoshizo (Gotenba JPX) Iwata Kotei (Gotenba JPX), Epitaxial growing apparatus.
  9. McNeilly Michael A. (Saratoga CA) Benzing Walter C. (Saratoga CA), Epitaxial radiation heated reactor.
  10. Pozzetti Vittorio (Brugherio ITX) Poggi Piergiovanni (Milan ITX) Preti Franco (Milan ITX), Epitaxial reactors.
  11. Frijlink Peter (Crosne FRX), Epitaxy reactor having an improved gas collector.
  12. Moore Gary M. (San Jose CA), High capacity epitaxial reactor.
  13. Cox M. Keith (Dallas TX) Davidson William E. (Scarborough CAX), High velocity hot air sterilization device with controller.
  14. Christensen Robert W. (Monte Sereno CA), Induction heated pancake epitaxial reactor.
  15. Arai Tetsuji (Tachikawa JPX) Mimura Yoshiki (Yokohama JPX), Light-radiant heating furnace.
  16. Carlson David K. ; Riley Norma ; Anderson Roger N., Method and apparatus for controlling the temperature of reaction chamber walls.
  17. Maloney James R. (San Jose CA) Moore Joseph C. (Milpitas CA), Method and apparatus for epitaxial deposition.
  18. Achutharaman Vedapuram S. ; Swenberg Johanes, Method and apparatus for forming an epitaxial titanium silicide film by low pressure chemical vapor deposition.
  19. Robinson McDonald (Paradise Valley AZ) Behee Ronald D. (Tempe AZ) deBoer Wiebe B. (Amersfoort AZ NLX) Johnson Wayne L. (Phoenix AZ), Method and apparatus for substrate heating in an axially symmetric epitaxial deposition apparatus.
  20. Maloney James R. (San Jose CA) Moore Joseph C. (Milpitas CA), Method for epitaxial deposition.
  21. Moore Gary M. (San Jose CA), Method for increasing the batch size of a barrel epitaxial reactor and reactor produced thereby.
  22. Logar Roger E. (San Jose CA), Particulate-free epitaxial process.
  23. McNeilly ; Michael A. ; Benzing ; Walter C. ; Locke ; Jr. ; Richard M., Process for preparing semiconductor wafers with substantially no crystallographic slip.
  24. Urata Masafumi (San Jose CA) Shirogaki Katsuya (Sunnyvale CA), Reactor for epitaxial growth.
  25. Burt Curtis L. (Glendale AZ) Steele John W. (Chandler AZ), Silicon epitaxial reactor and control method.
  26. Kusmierz Marvin A. (Bay City MI) Pijaszek Robert F. (Bay City MI), Susceptor assembly.

이 특허를 인용한 특허 (7)

  1. Onodera, Naomi; Gokon, Kiyohiko; Sato, Jun, Plasma process apparatus and plasma process method.
  2. Onodera, Naomi; Gokon, Kiyohiko; Sato, Jun, Plasma process method.
  3. T, Ravi Kumar; Banerjee, Goutam; Pai, Ramesh Brahmavar, System and method for maintaining the health of a control system.
  4. Venditti, Paul; Brahmavar, Ramesh Pai; Srivastava, Ayush; Skalyo, Michael Scott; McCarthy, Kevin Thomas, Systems and methods for control reliability operations.
  5. McCarthy, Kevin Thomas; Brahmavar, Ramesh Pai; Venditti, Paul; Banerjee, Goutam, Systems and methods for control reliability operations using TMR.
  6. McCarthy, Kevin Thomas; Srivastava, Ayush; Venditti, Paul; Marathe, Parag Arvind; Schweitzer, Paul Thomas, Systems and methods for performing redundancy tests on turbine controls.
  7. Loganathan, Karthikeyan; Srivastava, Ayush; Venditti, Paul; Brahmavar, Ramesh Pai; Banerjee, Goutam; McCarthy, Kevin Thomas, Systems and methods for rule-based control system reliability.
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