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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0272072 (2002-10-16) |
우선권정보 | KR-0065913 (2001-10-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 7 |
Photoresist additives for preventing the acid generated in the exposed area during the course of a photolithography process from being diffused to the unexposed area, photoresist compositions containing the same, and a process for forming a photoresist pattern using the same. Photoresist composition
1. A photoresist composition comprising a photoresist additive for preventing acid diffusion, wherein the additive is represented by Formula 1:wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are individually selected from the group consisting of H, linear C 1 -C 10 alkyl and branched C 1 -C 10 alkyl, and k
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