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Thin film metal oxyanion coated substrates 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B32B-005/16
출원번호 US-0407749 (2003-04-07)
발명자 / 주소
  • Clough, Thomas J.
출원인 / 주소
  • Ensci Inc
대리인 / 주소
    Uxa Frank J.
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 10

초록

Three dimensional inorganic powder substrates, with shielded surfaces, having metal oxyanion containing coatings are disclosed. The coated substrates are produced by the process comprising reacting powder particle substrates with a metal oxyanion precursor, an anion forming precursor and an oxy prec

대표청구항

1. An article comprising a thermally associated nondeleterious contaminated metal oxyanion coated three dimensional powder particle substrate produced by the process comprising: forming a reactant mixture comprising powder particle substrates, a metal oxyanion precursor, an anion forming precursor s

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Atwell William Henry ; Bujalski Duane Ray ; Lipowitz Jonathan ; Su Kai ; Zank Gregg Alan,JPX, Amorphous silicon oxycarbide and crystalline silicon carbide fibers from curable alkenyl or alkynyl functional siloxane.
  2. Prochazka Svante (Ballston Lake NY), Amorphous silicon oxycarbide coated silicon carbide or carbon fibers.
  3. Oyama Shigeo T. (Blacksburg VA) Yu Chunzhe C. (Blacksburg VA) Sherif Fawzy G. (Stony Point NY), Catalytic bimetallic oxynitrides and nitrides.
  4. Sekyung Chang ; Robert H. Doremus ; Richard W. Siegel ; Pulickel M. Ajayan, Ceramic matrix nanocomposites containing carbon nanotubes for enhanced mechanical behavior.
  5. Clough, Thomas J., Metal oxide coated diatomite substrates.
  6. Clough, Thomas J., Metal oxide coated substrates.
  7. Clough, Thomas J., Metal oxide coated substrates.
  8. Law Kam ; Olsen Jeff, Method of forming silicon oxy-nitride films by plasma-enhanced chemical vapor deposition.
  9. Kenton D. Budd ; Moses M. David ; Stephen L. Lieder ; Kyung H. Moh, Oxynitride encapsulated electroluminescent phosphor particles.
  10. Gelatos Avgerinos V. (Austin TX) Poon Stephen S. (Austin TX), Semiconductor device having a ternary boron nitride film and a method for forming the same.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Pabla, Surinder Singh; Margolies, Joshua Lee; Parakala, Padmaja, Ceramic powders and methods therefor.
  2. Watson, Kent A.; Fallbach, Michael J.; Ghose, Sayata; Smith, Joseph G.; Delozier, Donavon M.; Connell, John W., Depositing nanometer-sized particles of metals onto carbon allotropes.
  3. Attygalle, Athula Buddhagosha; Weisbecker, Carl S., Method for producing gas-phase metal anions.
  4. Petrmichl, Rudolph Hugo; Remington, Jr., Michael P.; Nunez-Regueiro, Jose; Frati, Maxi; Fisher, Greg, Method of making a scratch-and etch-resistant coated glass article.
  5. Veerasamy, Vijayen S., Method of making scratch resistant coated glass article including layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s).
  6. Veerasamy, Vijayen S., Method of making scratch resistant coated glass article including layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s).
  7. Malshe, Ajay P.; Jiang, Wenping; Lowrey, Justin B., Methods and apparatus for making coatings using electrostatic spray.
  8. Murphy, Nestor P.; Petrmichl, Rudolph Hugo; Veerasamy, Vijayan S., Scratch resistant coated glass article including carbide layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s).
  9. Murphy, Nestor P.; Petrmichl, Rudolph Hugo; Veerasamy, Vijayen S., Scratch resistant coated glass article including carbide layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s).
  10. Thomsen, Scott V.; Petrmichl, Rudolph Hugo; Murphy, Nestor P.; Veerasamy, Vijayen S., Scratch resistant coated glass article including layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s), and method of making article using combustion CVD.
  11. Thomsen,Scott V.; Petrmichl,Rudolph Hugo; Murphy,Nestor P.; Veerasamy,Vijayen S., Scratch resistant coated glass article including layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s), and method of making article using combustion CVD.
  12. Veerasamy,Vljayan S.; Thomsen,Scott V.; Murphy,Nestor P.; Petrmichl,Rolf Hugo, Scratch resistant coated glass article resistant fluoride-based etchant(s).
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