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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0418616 (2003-04-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 37 인용 특허 : 84 |
In one aspect, a method of manufacturing a capacitor includes disposing one or more conductive layers of a first electrode stack in a recess of an alignment mechanism, where the recess is positioned relative to two or more alignment elements. The method further includes placing a separator over the
1. A method of manufacturing a flat capacitor stack, comprising:forming a plurality of capacitor layers, each capacitor layer including a separator layer attached to a capacitor foil layer; andplacing each of the plurality of capacitor layers onto a capacitor stack by aligning each of the capacitor
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