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Mass flow ratio system and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G06F-019/00
출원번호 US-0037882 (2002-01-04)
발명자 / 주소
  • Ambrosina, Jesse
  • Kottenstette, Nicholas E.
  • Shajii, Ali
출원인 / 주소
  • MKS Instruments, Inc.
대리인 / 주소
    McDermott Will & Emery
인용정보 피인용 횟수 : 13  인용 특허 : 9

초록

A system for dividing a single mass flow, including an inlet adapted to receive the single mass flow and at least two flow lines connected to the inlet. Each flow line includes a flow meter and a valve. The system also includes a controller programmed to receive a desired ratio of flow through a use

대표청구항

1. A system for dividing a single mass flow into two or mare secondary flows of desired ratios, comprising:A) an inlet adapted to receive the single mass flow;B) at least two secondary flow lines connected to the inlet, each flow line including,a flow meter measuring flow through the flow line and p

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Mack Michael E. (Manchester MA), Fluid flow control method and apparatus for minimizing particle contamination.
  2. Mack Michael E. (Manchester MA), Fluid flow control method and apparatus for minimizing particle contamination.
  3. Goldman Jon C. (Orange CA) Rappaport Robert E. (Westminster CA), Gas control system for chemical vapor deposition system.
  4. McMillin Brian K. ; Knop Robert, Gas distribution apparatus for semiconductor processing.
  5. Marrelli John D. (Houston TX), Means for separating a fluid stream into two separate streams.
  6. Stoy James R. (Missouri City TX) Schrodt James L. G. (Houston TX) Wheeler Stephen S. (Bakersfield CA), Method and apparatus for automatically transferring and measuring wet steam between priority and secondary users.
  7. Goto Yasuo (Saitama JPX), Nitrogen oxide removal control apparatus.
  8. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX) Davis Cecil J. (Greenville TX) Matthews Robert T. (Plano TX), Programmable multizone gas injector for single-wafer semiconductor processing equipment.
  9. Bergamini Lorenzo,ITX, System for measuring and controlling gas mass flow.

이 특허를 인용한 특허 (13)

  1. Taskar, Mark; Shareef, Iqbal, Cluster mass flow devices and multi-line mass flow devices incorporating the same.
  2. Ding, Junhua; Zarkar, Kaveh H., Gas delivery method and system including a flow ratio controller using a multiple antisymmetric optimal control arrangement.
  3. Ding, Junhua; Smith, John A.; Zarkar, Kaveh H., Gas delivery method and system including a flow ratio controller using antisymmetric optimal control.
  4. Okabe, Tsuneyuki, Gas supply apparatus for semiconductor manufacturing apparatus.
  5. Seeli, John W.; Zietlow, David, Heat transfer apparatus and method.
  6. Ambrosina,Jesse; Kottenstette,Nicholas E.; Shajii,Ali, Mass flow ratio system and method.
  7. Lull,John M.; Valentine,William S., Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  8. Lull,John M.; Valentine,William S., Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  9. Lull,John M; Valentine,William S, Method and apparatus for providing a determined ratio of process fluids.
  10. Tinsley,Kenneth E.; Tariq,Faisal, Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity.
  11. Ding, Junhua, Method of and apparatus for multiple channel flow ratio controller system.
  12. Shajii, Ali; Nagarkatti, Siddharth P.; Hill, Gordon, Pressure regulation in remote zones.
  13. Finley,Kenneth; Zolock,Michael J.; Lee,Brian, System and method for driving an industrial control device.
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